国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“使用多个带电粒子射束的装置”的专利，公开号CN121617881A，申请日期为2017年12月。

专利摘要显示，本公开提出一种防旋转透镜，并将其用作具有预子射束形成机构的多射束装置中的防旋转聚光透镜。防旋转聚光透镜在改变其电流时保持子射束的旋转角度不变，从而使得预子射束形成机构能够尽可能多地阻断未使用的电子。以这种方式，多射束装置可以以高分辨率和高吞吐量观察样本，并且能够用作检查和/或查看半导体制造工业中的晶片/掩模上的缺陷的产量管理工具。

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作者：情报员