来源：市场资讯
（来源：北方华创）
尊敬的业界同仁：
春潮涌动，芯途致远！半导体产业深刻变革，数智化转型加速向前，每一步突破都离不开产业链同仁的深耕与创新。作为您信赖的合作伙伴，北方华创始终扎根技术研发，以高性能的产品与全周期专业化服务，为客户的产能升级、技术迭代保驾护航。
作为年度半导体行业风向标，SEMICON China 2026即将如期而至。3月25-27日，北方华创将携全新产品、前沿解决方案与创新技术平台，亮相上海新国际博览中心。同期，集成电路科学技术大会（CSTIC 2026），也将于3月22-24日在上海浦东嘉里大酒店召开。
我们诚邀各位行业同仁、合作伙伴亲临现场（展位N3-3441），共寻合作共赢的新契机，并肩筑牢中国半导体产业的坚实根基！
感谢您一如既往的支持，期待与您相聚上海！
SCC可持续发展与ESG高峰论坛
王娜
北方华创微电子CSO
演讲题目
精工铸器，绿智共生：北方华创的可持续创新与产业责任之路
Precision for Progress, Green for Growth: NAURA's Pathway to Sustainable Innovation and Industry Responsibility
演讲时间
3月27日 10:55-11:15
演讲地点
上海浦东嘉里大酒店，浦东厅1
IC制造产业链国际论坛：晶圆制程与设备
袁福顺
北方华创微电子WET事业单元总经理
演讲题目
国产高端湿法装备突围：先进制程湿法工艺核心挑战与全链条解决方案
Breakthrough of local wet process equipment: Key Challenges in Advanced Wet Process Technology and Full-Chain Solutions
演讲时间
3月26日9:30-9:50
演讲地点
上海浦东嘉里大酒店, 浦东厅5
异构集成（先进封装）国际会议：AI算力与CPO
耿波
北方华创微电子POP事业单元总经理
演讲题目
先进封装设备赋能异构集成新生态
Advanced Packaging Equipment: Enabling the Future of Heterogeneous Integration
演讲时间
3月24日 16:00-16:20
演讲地点
上海浦东嘉里大酒店，浦东厅1
亚洲化合物半导体大会
杨牧龙
北方华创微电子化合物外延事业单元总经理
演讲题目
化合物半导体外延设备及工艺解决方案
Total Solution of Compound Semiconductor Epitaxy
演讲时间
3月26日 15:15-15:40
演讲地点
上海浦东嘉里大酒店，浦东厅1
CSTIC集成电路科学技术大会
Symposium III: Dry &Wet Etch and Cleaning
Session III: Advanced Patterning - Part 2
演讲人：钟涛 先生
演讲题目：ICP Etch for Advanced Technology Node
演讲时间：3月23日9:00-9:25
演讲地点: 上海浦东嘉里大酒店，浦东厅1
Session III: Advanced Patterning - Part 2
演讲人：曹泽京 先生
演讲题目：TSV, The Key Process for Advanced 3D IC
演讲时间：3月23日9:40-9:55
演讲地点：上海浦东嘉里大酒店，浦东厅1
Session IV: Memory Applications
演讲人：梅佩 女士
演讲题目：Silicon Recess Etch Technology for Storage Contact in Memory Cell Manufacturing
演讲时间：3月23日11:35-11:50
演讲地点：上海浦东嘉里大酒店，浦东厅1
Session VII: Wet Etch and Compound Etching
演讲人：谭晓宇 博士
演讲题目：Deep SiC ICP Etching for Superjunctions
演讲时间：3月24日9:25-9:40
演讲地点：上海浦东嘉里大酒店，多功能厅3
Session VIII: Logic Applications
演讲人：徐力田 专家
演讲题目：Development of Single Diffusion Break Fin Cut Etch Process for Logic FinFET Application
演讲时间：3月24日10:50-11:05
演讲地点：上海浦东嘉里大酒店，多功能厅3
Symposium IV: Thin Film, Plating and Process Integration
Session I: Device Integration I
演讲人：罗雅方 女士
演讲题目：Study on Furnace-based ALD SiN Formation Process and Film Quality Improvement
演讲时间：3月22日15:45-16:00
演讲地点：上海浦东嘉里大酒店，上海厅3
Session III: FEOL Development I
演讲人：汪涵 专家
演讲题目：Basic Principle and Application of Surface Carbon Clean System
演讲时间：3月23日11:10-11:35
演讲地点：上海浦东嘉里大酒店，上海厅3
Session V: BEOL Process Development
演讲人：张莹 女士
演讲题目：Study on the Improvement of Silicon Film Trench Fill Capacity and Uniformity
演讲时间：3月23日15:40-15:55
演讲地点：上海浦东嘉里大酒店，上海厅3
实际议程可能动态变化，请以SEMI官方发布为准。
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