来源：市场资讯

（来源：苏大维格）

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上海新国际博览中心

N1馆1281

SEMICON

2026年上海国际半导体展览会

2026年3月25日至27日，全球半导体行业风向标——SEMICON CHINA 2026将在上海新国际博览中心盛大开幕。

苏大维格将携微纳光制造核心装备在N1馆1281、T2435重磅参展，集中展示封装数字光刻系统、数字化紫外直写光刻系统、纳米压印光刻系统、半导体检测解决方案，以自主核心技术赋能半导体产业高质量发展。

一

N1馆 1281 | 苏大维格主展位

主题：直写，让光刻变得更简单

聚焦半导体先进封装与微纳光刻核心制程，主打极简高效、自主可控的全流程光刻方案，彰显国产装备硬核落地实力。

核心展示：封装数字光刻、数字化紫外直写光刻、纳米压印光刻三大核心系统，覆盖研发小批量至工业化量产全场景，以直写技术革新传统制程，助力泛半导体、先进封装、微纳光学领域提质增效、突破壁垒。

二

T2435 | 维普半导体专展

主题：半导体自动光学检测专家

专注半导体制造全流程质控，深耕国产化检测赛道，补齐产业链高端检测短板，破解行业“卡脖子”难题。

核心展示：半导体全自动光学检测解决方案，精准适配晶圆、掩模严苛缺陷检测，覆盖泛半导体、CMOS图像传感器、MEMS、RF等领域，服务头部芯片制造与封测厂商，以高精度检测装备护航良率，助力产业自主发展。