国家知识产权局信息显示，紫荆光刻技术（深圳）有限公司申请一项名为“三维微纳光学元件制备系统、方法及相关设备”的专利，公开号CN121657359A，申请日期为2025年12月。

专利摘要显示，本发明实施例涉及微纳制造技术领域，公开了一种三维微纳光学元件制备系统、方法及相关设备，该系统包括数据控制与处理端、光场生成及调制器、样品平台及在线监测仪，在线监测仪测量初步制备得到第一微纳光学元件的形貌尺寸；数据控制与处理端根据第二三维结构数据与第一三维结构数据的偏差值确定是否对第一微纳光学元件进行修正，若是，则根据偏差值从预设的修正数据库中获取修正数据；光场生成及调制器根据修正数据调整光场，以基于调整后的光场对第一微纳光学元件进行修正。通过上述方式，本发明实施例闭环制备流程，可以消除形貌尺寸的偏差，实现了纳米级的形貌控制精度和均匀性，从而提高成品的一致性及良率。

天眼查资料显示，紫荆光刻技术（深圳）有限公司，成立于2022年，位于深圳市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本300万人民币。通过天眼查大数据分析，紫荆光刻技术（深圳）有限公司拥有行政许可6个。

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作者：情报员