国家知识产权局信息显示,上海灵境光启科技有限公司申请一项名为“铌酸锂材料的干法刻蚀方法及铌酸锂波导”的专利,公开号CN121657206A,申请日期为2025年12月。
专利摘要显示,本申请提供了一种铌酸锂材料的干法刻蚀方法及铌酸锂波导。所述方法包括步骤:获取铌酸锂材料的晶圆,所述晶圆上具有待刻蚀图案的掩膜层;在所述晶圆上制备一层铝薄膜;将带有铝薄膜的晶圆进行退火处理;利用化学混合液去除铝薄膜,清洗烘干得到待刻蚀晶圆;对所述待刻蚀晶圆进行刻蚀;去除刻蚀后的晶圆上的铌酸锂损伤层和掩膜层,并再次进行退火处理。本申请的方案能够获得良好的刻蚀形貌特征,从而制备出高性能的铌酸锂波导。
天眼查资料显示,上海灵境光启科技有限公司,成立于2025年,位于上海市,是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本100万人民币。通过天眼查大数据分析,上海灵境光启科技有限公司。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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