ASML申请用于边缘放置量测的基于学习的局部对准专利,与检查图像中的图案的边缘位置相匹配
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国家知识产权局信息显示,ASML荷兰有限公司申请一项名为“用于边缘放置量测的基于学习的局部对准”的专利,公开号CN121713214A,申请日期为2024年7月。
专利摘要显示,一种用于边缘放置误差检测的带电粒子束检查方法包括获取灰度检查图像,并且执行检查图像和二值参考图像之间的一系列变换以计算变形图。然后变形图可以被应用于二值参考图像以生成与检查图像中的图案的边缘位置相匹配的二值定制轮廓图像。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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