国家知识产权局信息显示,深圳华泓智能有限公司取得一项名为“一种双槽GPU增风结构”的专利,授权公告号CN224037690U,申请日期为2025年3月。
专利摘要显示,本实用新型揭示了一种双槽GPU增风结构,包括GPU进风上盖,底座和进风机构。所述GPU进风上盖为具有一定段落差的三段式设计,包括上盖进风段平面、上盖进风段差斜面和上盖出风段平面。所述进风机构安装在所述底座进风端,用于控制进风方向。所述GPU进风上盖安装在所述底座上,与所述底座配合形成一个除进出风口外的空腔。本实用新型通过三段式设计的GPU进风上盖和与上盖配合设计的底座,组成了一个具有三段式结构的空腔风道,将冷却空气传入时通过空腔结构横截面积的增加实现了空气量的增加,提高了冷却效率。同时三段式设计的GPU进风上盖,在双槽GPU密集排列时也能保证进风端之间具有较大的距离,从而避免间距过小造成的进风量过小,进而影响散热效果。
天眼查资料显示,深圳华泓智能有限公司,成立于2019年,位于深圳市,是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本1500万人民币。通过天眼查大数据分析,深圳华泓智能有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目1次,专利信息18条,此外企业还拥有行政许可4个。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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