罗伯特·博世申请加工电化学单池基底的设备及方法专利,主动冷却基底提高加工精度
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国家知识产权局信息显示,罗伯特·博世有限公司申请一项名为“用来加工用于电化学单池的基底的加工设备以及用来加工用于电化学单池的基底的方法”的专利,公开号CN121733014A,申请日期为2025年9月。
专利摘要显示,本发明涉及一种用来加工用于电化学单池的基底(12)的加工设备(10)以及一种用来借助于这样的加工设备(10)加工用于电化学单池的基底(12)的方法。提出了,借助于液体池(18)尤其主动式地冷却基底(12)。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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