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2026年3月,IEEE Access上线了一篇论文,作者来自帝京大学和理化学研究所(RIKEN)。他们没发新闻稿,没开媒体会,但做了一件很实在的事:把现有半导体工艺和量子计算嫁接,试图让量子比特的读取不再依赖笨重的低温放大器。

量子计算有个老毛病——读出信号太弱。单个量子比特的状态信息,需要经过多级低温放大才能被经典电路识别。这套设备占空间、耗电、还贵。帝京大学的田本刚史和理研的大野浩司换了个思路:既然硅基量子比特本身可以用现有芯片工艺制造,那读取电路能不能也塞进同一块硅片?

全环绕栅极晶体管成了"翻译官"

全环绕栅极晶体管成了"翻译官"

他们选中的载体是GAA(全环绕栅极晶体管。这种结构被台积电、三星用在3纳米及以下节点,栅极从四面环抱沟道,静电控制能力比FinFET强一截。

量子比特的自旋状态会改变周围电荷分布,而电荷分布又会影响GAA晶体管的导通电流。团队用TCAD(技术计算机辅助设计)模拟了三维结构,算出不同自旋配置下的电流-电压曲线。电流差异,就是经典电路能识别的"0"和"1"。

关键数字:他们设计的逻辑量子比特由两个物理量子比特组成。通过动态调控栅极电压,读取信号可以被传统CMOS(互补金属氧化物半导体) sense放大器捕获。换句话说,不需要额外低温放大器。

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SPICE模拟验证了一条可行路径

SPICE模拟验证了一条可行路径

论文后半段用SPICE(集成电路仿真程序)跑了电路级验证。这是半导体行业用了几十年的老工具,模拟结果意味着——如果工艺厂愿意,这套方案可以很快流片试产。

团队没公布具体的信噪比数值或读取保真度,但强调"有效检测"(detected effectively)在合理设计的电路中可以实现。这种克制在学术圈里反而少见。

一个细节:论文标注的发表时间是2026年3月,但DOI后缀显示投稿在2025年中。审稿周期大半年,说明IEEE Access的评审对这类交叉工作相当谨慎。

为什么这事值得半导体人关注

为什么这事值得半导体人关注

量子计算公司分两大派。IBM、Google押注超导,需要稀释制冷机把温度压到10毫开尔文,一台设备占半个房间。英特尔、新思科技(Synopsys)则赌硅基量子比特,因为可以蹭现有晶圆厂。

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帝京大学-理研这组工作的特殊之处在于:他们把"蹭工艺"推进到了电路级。不是只做量子比特本身,而是把读取链路也纳入标准CMOS框架。

这对代工厂是好消息。台积电的N2节点2025年量产,GAA结构已经就绪。如果量子计算团队能证明同晶圆集成可行,晶圆厂不需要为量子客户单独开产线——改改设计规则就能接单。

田本刚史在论文里提到,动态电压控制是读取成功的关键。这其实是半导体设计的老手艺:时序优化、噪声抑制、功耗权衡,经典芯片工程师每天都在做。量子团队现在需要这些经验。

理化学研究所的背景也值得一说。这是日本最大的综合性科研机构,旗下量子计算中心有超导和硅基两条线。大野浩司所在的团队长期做硅自旋量子比特,2023年曾实现双量子比特门操作,保真度超过99%。这次和帝京大学的合作,是把器件物理往工程化推了一步。

论文最后没画大饼,只留了一个开放的技术问题:GAA晶体管的工艺波动(variability)对量子比特读取的影响,还需要实验验证。模拟再精确,也替代不了流片测试。

如果台积电或英特尔愿意拿几片wafer(晶圆)试试,这件事的进度可能会快很多。问题是,他们愿意吗?