国家知识产权局信息显示,哈尔滨艾为微电子技术有限公司申请一项名为“励磁补偿方法、光学稳定系统、电子设备、介质和芯片”的专利,公开号CN121791759A,申请日期为2025年12月。
专利摘要显示,本申请涉及电子技术领域,公开了一种励磁补偿方法、光学稳定系统、电子设备、介质和芯片。在该方法中通过励磁补偿模块建立励磁模型,其中,励磁模型基于检测模块检测到的N个励磁变化量确定,N个励磁变化量分别对应受控模块在N个不同位置下、对驱动模块施加同幅变频扫频电流信号的情况下、检测模块采集到的励磁变化量,其中,N为大于1的整数;获取驱动模块的电流信号和受控模块的电压信号;基于励磁模型、电流信号和电压信号,确定光学稳定系统的励磁干扰目标信号量;基于励磁干扰目标信号量对光学稳定系统进行励磁补偿。可以消除由驱动器件的电生磁产生的励磁干扰,提高光学稳定系统的精度和稳定性。
天眼查资料显示,哈尔滨艾为微电子技术有限公司,成立于2024年,位于哈尔滨市,是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析,哈尔滨艾为微电子技术有限公司专利信息2条。
声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。
本文源自:市场资讯
作者:情报员
热门跟贴