据美国战略与国际研究中心研究员格雷戈里·C·艾伦表示，中国科技公司已聘请ASML员工开发国产的光刻机设备，但整体进度仍然处于落后状态。
随后艾伦补充表示，在美国禁令生效之前，中国企业与ASML紧急签订了采购协议，囤积了ASML部分老款光刻机，以便继续制造那些不太先进的芯片。
美国经济历史学家、外交政策研究院主任克里斯·米勒在个人作品《Chip War》中指出，先进的光刻机设备是人类迄今为止创造过的最复杂的工业机器，其供应链企业遍布全球，包括了欧洲、美国、亚洲在内的5100家企业。
涉及学科复杂，包括材料学、物理学、化学、机械制造、设计光学等各类科学技术。
ASML的成功依托于全球资源体系的支持，并且服务于全球范围内的客户群体。
美国的对华限制让ASML中国区业务出现不稳定因素，先封锁了中国企业在2018年采购的EUV光刻机，随后又接连封锁了浸润式光刻机的出口，这极大刺激了中国本土设备企业，让中国自主技术设备迎来了大规模的集中发展。
ASML前CEO与现任CEO纷纷在接受采访时指出，已经知晓中国企业在开发先进的国产光刻机设备这件事，这完全合情合理。
中国是一个14亿人口的大国，作为一个世界上最大的经济体，中国企业绝对不会接受在关键技术上面被别人卡脖子的困境，美国试图阻止中国发展科技，那么中国就会更加努力地取得成功。
在先进芯片和EUV光刻机受到封锁之后，中国企业积极采取备选技术方案，通过可采购到的ASML浸润式光刻机以及自对准多重图案化技术制造国产7nm芯片。
该技术需要光刻机一次曝光，然后经过两次沉积-刻蚀工艺的交替实现晶体管半间距的缩短，以此来达到等效7nm工艺的特性。
这种技术虽然可以制造7nm芯片，但是其能效、性能、良品率、成本均无法与先进的EUV技术相比。
在积极解决先进芯片卡脖子的困境时，中国企业还在持续推进国产化设备的技术进度。
2024年我国工信部公布了两台光刻机设备，一台KrF一台ArF。最先进的ArF设备已经具备了65nm分辨率，可以实现65nm—40nm的芯片制造。
虽然只是两台干式光刻机设备，但对于我国之前90nm的设备来说技术进步明显。
ASML中国区总裁沈波此前在中国进博会上对媒体表示，从1988年ASML将第一台设备运送到中国至今，中国大陆地区包括光刻机以及测量台在内的设备数量达到了1400台左右。
这些ASML的设备，一部分被拿去生产等效工艺为7nm的先进芯片，另一部分被用于制造28nm、14nm工艺的成熟芯片，这些成熟工艺的芯片被广泛应用于汽车、工业控制、物联网、消费电子等领域，占全球总市场需求的60%以上。
大规模囤货确保了在未来可能完全断供的情况下，中国庞大的制造业基础不至于因缺少设备而停摆，为经济安全构筑了关键防线。
据ASML财报显示，2023年至2025年，中国市场为其贡献的总销售占比极高，某些季度一度达到了40%以上的规模占比。
依靠ASML设备形成的制造产业链，是整个全球芯片制造业的技术标准，同时也是中国国产光刻胶、镜头、工作台等设备材料相对比的模板。
研发团队可以将国产部件接入现有产线进行测试，对比其与进口原件的性能差距，从而获得最直接的反馈数据进行迭代优化。
ASML的设备能达到现在这么稳定的水平，也是经过了长时间的技术调试与大量的数据信息当做参考。依照ASML的标准进行国产技术的优化，这要比闭门造车效率高得多。
如今来自于美国的外部压力，已经迫使中国半导体产业从单点突破转向系统发展。
在刻蚀、沉积、清洗、检测等多个设备领域，北方华创、中微公司等本土厂商已加速进入主流产线，芯上微装等本土光刻机企业也正在有条不紊的推动技术进步。
中国企业依靠内需市场以及前几年所囤积的进口设备，正在成熟制程领域形成规模优势和成本优势。
这不仅能满足内需，还可能以更具竞争力的价格参与全球市场，从而在半导体产业的基本盘中占据主导地位，削弱传统巨头的利润基础，为向高端进军积累资本和市场话语
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