国家知识产权局信息显示，上海华力集成电路制造有限公司申请一项名为“分组管控光刻套刻精度的方法”的专利，公开号CN121785068A，申请日期为2026年1月。

专利摘要显示，本发明公开了一种分组管控光刻套刻精度的方法，包括：步骤一、得到完成当层图形光刻的多个套刻map图。步骤二、按批次对套刻map图进行第一次分类。步骤三、按照第一次分类结果，对会影响各第一次分类对应的当层图形光刻的套刻精度的前层工艺的各机台进行追踪并进行分值计算；通过各分值确定机台和第一次分类中对应的分类组的一一对应关系。步骤四、后续批次的晶圆在对应的机台完成前层工艺时，按照分值对批次进行第二次分类。步骤五、在对完成了第二次分类的各批次的晶圆进行当层图形光刻之前，按照批次对应的第二次分类的分类组对当层图形光刻的套刻精度进行管控。本发明能对各前层工艺对当层图形光刻的套刻精度的影响进行修正，提高套刻精度。

天眼查资料显示，上海华力集成电路制造有限公司，成立于2016年，位于上海市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本2960000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海华力集成电路制造有限公司参与招投标项目2076次，专利信息2749条，此外企业还拥有行政许可399个。

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作者：情报员