国家知识产权局信息显示，三星显示有限公司申请一项名为“沉积掩模、制造沉积掩模的方法和电子装置”的专利，公开号CN121781059A，申请日期为2025年8月。

专利摘要显示，提供了沉积掩模、制造沉积掩模的方法和电子装置。所述沉积掩模包括：掩模基底，包括掩模开口；主涂覆膜，包括与所述掩模开口重叠的多个掩模图案；以及多个像素开口，由所述多个掩模图案限定，所述多个掩模图案通过所述多个像素开口彼此间隔开，其中，所述掩模基底包括：第一表面，面向所述主涂覆膜；第二表面，背对所述第一表面；第一侧表面，连接到所述第一表面；和第二侧表面，将所述第一侧表面和所述第二表面连接，其中，所述第一侧表面与所述主涂覆膜形成底切，并且所述底切的在平行于所述掩模基底的方向上的宽度在与所述掩模基底垂直的方向上随着靠近所述主涂覆膜而增加。

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作者：情报员