来源:市场资讯
(来源:半导体前沿)
-来自彤程,龙图光罩,SEMI,复旦大学,南开大学,暨南大学,苏州实验室,欣奕华,上海光源,中电科48所,安捷伦,湖北菲利华,新维度微纳,卫利等单位的专家将作精彩报告
-第3届光掩模与光刻胶技术论坛将于2026年4月24日在上海召开
伊朗伊斯兰革命卫队(IRGC)在一段最新视频中发出了明确威胁。
伊朗伊斯兰革命卫队已向美国公开发出严正警告:任何针对伊朗电力基础设施的打击,都将遭到果断报复。革命卫队发言人易卜拉欣・佐尔法加里准将威胁称,要对美国及以色列相关设施实施“彻底、完全摧毁”。视频后半部分特别点名阿布扎比这座隐秘的300 亿美元星门 AI 数据中心,将其列为伊朗计划摧毁的重要目标。此前有报道称,伊朗通过火箭弹袭击已对亚马逊部分 AWS 数据中心造成严重损毁,导致其停运。
视频中可以看到并听到佐尔法加里针对美国在伊朗相关行动发表上述重磅威胁。这位军方发言人宣称:
“若美国继续扬言打击伊朗发电厂设施,我方将立即实施以下报复措施:犹太复国主义政权的所有发电厂、能源基础设施、信息通信技术设施,以及该区域内所有有美国股东的同类企业,都将被彻底、完全摧毁。”
在佐尔法加里发表讲话后,视频画面切换为太空视角的地球影像,镜头通过谷歌地图逐步放大至阿布扎比,最终聚焦在一处近海区域,画面中是一片看似空旷的沙漠。但屏幕上叠加了一行文字:
“即便被谷歌隐藏,在我们眼中也无所遁形。”
随后视频切换为该区域的“夜视视角”,位于阿布扎比的星门 AI 数据中心完整轮廓清晰显现。
IRGC video截屏:
局势升级还是虚张声势?
有人不禁质疑:如果伊朗真有能力实施打击,为何在过去一个月的冲突中没有直接攻击星门这类数据中心?此前伊朗已成功袭击并导致部分亚马逊 AWS 数据中心运营中断,或许那只是在海湾国家部署的防御体系下侥幸得手的袭击。此外,近几周伊朗还对英伟达、微软、苹果、谷歌及另外 14 家美国科技企业发出过类似威胁。
目前双方均无意缓和言辞、减少武力使用,外界或许很快就能见证伊朗是否有能力对与美国商业相关的数据中心发动毁灭性打击。这一行动必然会危及生命—— 这些设施内有工作人员值守,因此事态绝非只关乎这些中东巨型项目所投入的 300 亿美元。
来源:官方媒体/网络新闻
—论坛信息—
名称:第3届光掩模与光刻胶技术论坛
时间:2026年4月24日
地点:上海
主办方:亚化咨询
—会议背景—
随着半导体工艺节点向2nm及以下推进,下一代光刻技术已成为行业焦点。主要方向包括高数值孔径极紫外(High-NA EUV)光刻、纳米压印光刻、电子束光刻、定向自组装(DSA)和X射线光刻等。这些技术旨在提升分辨率、降低成本并提高产量。2026年,高NA EUV已进入高容量制造阶段,而NIL和X射线光刻作为潜在颠覆者,正加速研发。
进入2026年,中国对高端光掩模的需求持续强劲增长,但技术研发、生产能力及产业链整合方面仍面临高成本、技术复杂性和供应链依赖等诸多挑战。全球半导体光掩模版市场在2018年至2024年间从40.4亿美元增长至51亿美元,年复合增长率达4.0%。预计到2030年,该市场规模将进一步扩大至约80亿美元。亚化咨询研究认为我国2025年第三方掩模版市场规模占比为70%左右,预计2030年中国掩模版市场规模有望达到120亿元。
全球光掩模版市场主要由Photronics、日本凸版(Toppan)和大日本印刷(DNP)三大企业主导,市场占有率超过70%。而在中国市场,路维光电、清溢光电、龙图光罩等本土企业正在不断提升其市场竞争力,并在国产化替代方面取得突破。
亚化咨询预计2026年市场规模有望达到100亿元。在ArF光刻胶领域,国内厂商正在加快研发进程,并取得了核心突破,如南大光电实现ArF光刻胶量产。国内一些光刻胶龙头企业如上海新阳、南大光电、容大感光、广信材料、晶瑞电材等,在光刻胶的研发和生产方面取得了显著进展。据亚化咨询最新行业调研,国内领先的光刻胶新锐企业还包括珠海基石(2022年成立)、国科天骥(2019年成立)等。国内光掩模与光刻胶产业发展正在提速,技术进步成为产业发展的重要推动力。
第3届光掩模与光刻胶技术论坛将于2026年4月24日在上海召开。本次论坛由亚化咨询主办。此次会议将汇聚行业的领军企业、机构的专家,探讨下一代光刻技术发展方向,中国光掩模版与光刻胶产业的技术进展与应用,市场机遇与挑战,和产业发展前景。
—会议报告—
—赞助方案—
项目
项目内容
主题演讲
25分钟主题演讲
参会名额
微信推送
“电子材料前沿”微信公众号,
企业介绍以及相关软文
会刊广告
研讨会会刊,
彩色全页广告(尺寸A4)
资料入袋赞助
企业的宣传册放入会议包袋
现场展台
现场展示台,展示样品、资料,
含两个参会名额
现场易拉宝
现场1个易拉宝展示
礼品赞助
印有赞助商logo的礼品赠送参会听众
茶歇赞助
冠名和赞助会议期间的茶歇
晚宴赞助
冠名和赞助会议的招待晚宴
Logo展示
背景墙 logo,会刊封面logo
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