国家知识产权局信息显示，浙江奥首材料科技有限公司申请一项名为“一种精细金属掩模版Invar材料减薄蚀刻液及制备方法和应用”的专利，公开号CN121826716A，申请日期为2026年1月。

专利摘要显示，本发明涉及一种精细金属掩模版Invar材料减薄蚀刻液及制备方法和应用，其中精细金属掩模版Invar材料减薄蚀刻液，按照重量份计算包括如下组分：无机酸50‑80份；缓蚀剂0.1‑2份；络合剂2‑5份；超纯水10‑30份。本发明的缓蚀剂可以保证蚀刻后的粗糙度与Invar基材没有差别；络合剂可以有效去除蚀刻后出现的点状腐蚀。

天眼查资料显示，浙江奥首材料科技有限公司，成立于2014年，位于衢州市，是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。企业注册资本6998.5594万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江奥首材料科技有限公司共对外投资了4家企业，参与招投标项目25次，财产线索方面有商标信息47条，专利信息270条，此外企业还拥有行政许可15个。

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作者：情报员