国家知识产权局信息显示，京东方科技集团股份有限公司申请一项名为“薄膜晶体管、制备方法和显示面板”的专利，公开号CN121843198A，申请日期为2026年1月。

专利摘要显示，本发明涉及显示技术领域，具体提供一种薄膜晶体管、制备方法和显示面板。本发明薄膜晶体管包括：衬底；设置在所述衬底上的多晶硅有源区、与有源区交界的栅极绝缘层、栅极以及源漏电极，所述有源区包括：Ⅴ族掺杂元素层和Ⅲ族掺杂元素层，其中所述Ⅴ族掺杂元素层和Ⅲ族掺杂元素层的相对位置被配置为使得所述薄膜晶体管导通时导通沟道远离所述有源区和栅极绝缘层的交界面。本发明通过调整Ⅴ族掺杂元素层和Ⅲ族掺杂元素层的相对位置，使导通沟道远离所述有源区和栅极绝缘层的交界面。这样的设计能够有效减少界面对载流子传输的影响，从而改善 TFT 的迟滞现象，进而改善 OLED 显示残像不良。

天眼查资料显示，京东方科技集团股份有限公司，成立于1993年，位于北京市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本3741388.0464万人民币。通过天眼查大数据分析，京东方科技集团股份有限公司共对外投资了73家企业，参与招投标项目313次，财产线索方面有商标信息787条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可47个。

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作者：情报员