国家知识产权局信息显示，武汉芯力科技术有限公司申请一项名为“一种供墨控制系统及方法”的专利，公开号CN121848828A，申请日期为2026年1月。

专利摘要显示，本发明公开了一种供墨控制系统及方法，属于喷墨打印技术领域，包括供墨装置和气压控制装置；供墨装置包括喷头、第一墨瓶和第二墨瓶，第一墨瓶通过第一供墨管路为第二墨瓶供墨，第二墨瓶通过第二供墨管路为喷头供墨，第二供墨管路中设置有流量传感器；气压控制装置包括正压气路、负压气路、压电比例阀和控制单元；通过压电比例阀联动正负压气路，结合流量传感器的实时检测，使控制单元可根据实际流量实时调整第二墨瓶内的气压，实现对喷头墨水流量的精确调控，使喷头保持稳定精确的供墨流量。本发明的供墨控制系统，解决了外部扰动导致的出墨波动问题，实现喷头供墨的高精度、高稳定性，满足高精度打印工艺需求。

天眼查资料显示，武汉芯力科技术有限公司，成立于2024年，位于武汉市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本2023.5万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉芯力科技术有限公司参与招投标项目5次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息22条。

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作者：情报员