国家知识产权局信息显示,武汉曜显激光科技有限公司申请一项名为“一种准分子激光退火系统及其控制方法”的专利,公开号CN121865880A,申请日期为2026年1月。
专利摘要显示,本发明提供了一种准分子激光退火系统及其控制方法,涉及激光退火技术领域,包括主控单元、激光发生单元、能量检测模块、运动平台、基板承载台和位置检测模块,所述运动平台上设有驱动基板承载台运动的驱动部件,所述位置检测模块用于采集运动平台的位置信息,所述能量检测模块用于采集激光光斑的能量数据;还包括自适应激光能量闭环调节模块、动态延时激光触发模块和集成式微流体热管理与快速冷却模块;本发明通过设置自适应激光能量闭环调节模块,实现了激光光斑能量分布的在线、实时、像素级均匀性补偿,采用基于实时位置反馈的动态延时激光触发方法,有效补偿了运动平台的机械传动间隙、速度波动及振动带来的同步误差。
天眼查资料显示,武汉曜显激光科技有限公司,成立于2025年,位于鄂州市,是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本850万人民币。通过天眼查大数据分析,武汉曜显激光科技有限公司专利信息1条。
声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。
本文源自:市场资讯
作者:情报员
热门跟贴