国家知识产权局信息显示,成都和展光电设备有限公司申请一项名为“一种光学吸收剂、热控黑漆及航天热控涂层制备方法”的专利,公开号CN121895799A,申请日期为2026年3月。
专利摘要显示,本发明公开一种光学吸收剂、热控黑漆及航天热控涂层制备方法,涉及新材料技术领域。本发明将光学吸收剂制备成,以二氧化硅为核的碳纳米管包覆结构。构建了具有稳定界面耦合作用的核壳复合结构。该结构通过二氧化硅表面的极性基团与碳纳米管缺陷位点或引入的官能团之间的分子间作用力,在两者界面处形成有效的光学和热学协同通道。热控黑漆中,选用的高苯基含量乙烯基有机硅树脂,其折射率与碳纳米管壳层相匹配,可显著降低粘结剂与吸收剂界面的光散射损失,保障了涂层对太阳光谱的高效吸收,通过核壳吸收剂的微观结构效应、树脂基体的界面匹配效应以及加成型固化反应的网络构筑效应,共同构成相互强化的化学与物理协同体系。
天眼查资料显示,成都和展光电设备有限公司,成立于2009年,位于成都市,是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本1222万人民币。通过天眼查大数据分析,成都和展光电设备有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目1次,专利信息28条,此外企业还拥有行政许可5个。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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