警惕！围堵中国芯片美国打法又升级了|中国|美国|黄仁勋

近段时间，美国对华芯片管控手段可谓一浪高过一浪。

3月26日，众议院外交事务委员会高票通过《芯片安全法案》。4月2日，民主、共和两党又火速推出《硬件技术管制多边协调法案》（即MATCH法案）。

两部法案一前一后，形成了从“生产设备”到“成品芯片”的全链条管控闭环，特朗普政府对华科技围堵再度加码。

火速通过的法案

20天前，当MATCH法案草案刚一露面，就引起全球科技界一片哗然。更令他们没想到的是，法案推进速度会如此之快。

当地时间4月22日，美国众议院外交事务委员会就MATCH法案进行了投票表决，成功推动该法案在立法进程中再迈出一步。这背后，是一场蓄谋已久、精心设计的“断粮计划”——想直接把中国芯片产业的技术后门彻底焊死。

在此之前，美国对华芯片出口主要靠商务部发许可证、总统签署行政令，虽然难但毕竟有回旋余地。而这一次，美国两党罕见联手，直接把芯片封锁从“行政层面”升级到“立法层面”，变成必须执行的刚性法律，意味着这套限制将具有前所未有的稳定性和约束力。

据路透社援引知情人士消息称，美国最大的存储芯片制造商美光科技，是推动通过该法案的主要推手。理由很直接也可笑，“防止中国像在太阳能产业及其他领域那样主导存储芯片制造业”。

从美国国会以往的立法经验来看，大量涉及科技、安全和对外经济竞争的法案，最终并不是以“单独立法”的形式完成的，而是被拆分、修改后并入年度国防授权法案、拨款法案或综合性对外经济安全立法之中。

不过，比“法案是否原样通过”更值得关注的，其实是它所代表的政策方向本身。

法案里的“毒招”

不管这部法案最终将会以何面貌出现，其中手段可谓毒辣。

过去，美国出口限制主要针对的是极紫外光刻机（EUV）——全球最高端的芯片制造设备。而这一次，MATCH法案直接将“黑手”伸向了浸润式深紫外光刻机（DUV）。

一个字母之差，但两者的功能天差地别。

打个比方，如果制造先进芯片是一场极其精密的建筑雕刻，EUV就是最顶级的雕刻刀，而DUV则是目前绝大多数芯片厂，包括中国龙头企业在内的主力生产工具。DUV光刻机是利用多重曝光技术生产7纳米至28纳米制程芯片的核心工具。

法案明确对所谓的“受关注国家”实施全面禁令，禁止出口DUV浸没式光刻设备、低温蚀刻设备等关键半导体制造设备。“受关注国家”是谁？不言自明。这意味着，无论最终用户是谁，只要目的地是中国，这些设备就一律不能卖。

虽然咱们目前在刻蚀、沉积、清洗等半导体设备领域是有进展，但光刻机这块儿，特别是支持14/28nm关键节点的DUV浸没式光刻机，还是高度依赖荷兰ASML。

如果说禁止设备出口是在未来的产能扩张上“绞杀”，那么第二招就是对现有产能的“釜底抽薪”。法案将中芯国际、华为、长江存储、长鑫存储、华虹等五家中国半导体领军企业及其所有关联公司和子公司，直接列为“受管制设施”。不只是禁止出售新设备，还明确禁止设备原厂工程师为中国企业提供任何维修、技术支持、软件更新和备件更换服务。

以前美国和荷兰、日本等国出口管制协同得不太给力，各国执行力度、范围和时间表都有差异。现在，MATCH法案直接设置了150天倒计时，强制盟友对齐出口管制，妄图把全球半导体设备供应链整合起来封锁中国。