国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“用于装置制作期间能量势垒的非接触式测量的系统和方法”的专利，公开号CN121925996A，申请日期为2024年8月。

专利摘要显示，用于在晶体管的制作期间测量所述晶体管的能量势垒的系统和方法，包括：针对多个光子能量中的每个光子能量确定晶体管的光电流；基于所述带电粒子束的多个着陆能量中的每个着陆能量的光电流确定能量势垒；以及确定所述晶体管的能量势垒，其中所述能量势垒是零电压能量势垒或者基本上接近零电压的能量势垒。方法包括用带电粒子束辐照栅极；用光子束辐照所述栅极下方；确定处于多个光子能量中的每个光子能量时的次级电子（SE）产额；以及确定所述晶体管的能量势垒。

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作者：情报员