国家知识产权局信息显示,沐曦集成电路(上海)股份有限公司申请一项名为“一种用于芯片后端设计的RDL信息下推方法”的专利,公开号CN121936409A,申请日期为2026年3月。
专利摘要显示,本申请涉及集成电路设计技术领域,特别是涉及一种用于芯片后端设计的RDL信息下推方法,该方法通过配置信息能够自定义地从顶层RDL信息汇总筛选出待下推信息,提高了RDL信息下推的灵活性,通过集合图形运算的方式确定下推给目标单元的RDL信息内容,保证了RDL信息的完备性和可靠性,而且集合图形运算的方式计算效率更高,使得RDL信息下推的处理效率更高,也即提高了RDL信息下推的可靠性和效率。
天眼查资料显示,沐曦集成电路(上海)股份有限公司,成立于2020年,位于上海市,是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本40010万人民币。通过天眼查大数据分析,沐曦集成电路(上海)股份有限公司共对外投资了24家企业,参与招投标项目11次,财产线索方面有商标信息63条,专利信息391条,此外企业还拥有行政许可5个。
声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。
本文源自:市场资讯
作者:情报员
热门跟贴