国家知识产权局信息显示，成都新紫光半导体科技有限公司申请一项名为“提升PVD镀膜均匀度的方法”的专利，公开号CN121951482A，申请日期为2024年10月。

专利摘要显示，本公开涉及一种提升PVD镀膜均匀度的方法，该方法包括：将晶圆的表面划分为至少两个不同的独立区域，在每个独立区域的表面设置独立的靶材和对应的独立的直流电源，其中，每个独立区域对应的靶材和直流电源电连接；通过控制系统对每个独立区域的沉积速率进行检测；根据检测数据，控制系统调整对应的独立区域的直流电源的功率，以使不同的独立区域的薄膜沉积均匀一致。通过将晶圆表面划分成多个独立区域，并为每个独立区域配备独立的靶材和直流电源，能够在沉积过程中更加精细地控制每个独立区域的沉积条件。这意味着能够在较大的晶圆表面上实现更加均匀的薄膜沉积，减少了传统单个靶材沉积时产生的均匀度差的现象。

天眼查资料显示，成都新紫光半导体科技有限公司，成立于2022年，位于成都市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本25000万人民币。通过天眼查大数据分析，成都新紫光半导体科技有限公司专利信息88条。

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作者：情报员