国家知识产权局信息显示，安徽熙泰智能科技有限公司申请一项名为“低温原子层沉积薄膜的方法、设备、微显示器件”的专利，公开号CN121951498A，申请日期为2026年1月。

专利摘要显示，本发明公开了一种低温原子层沉积薄膜的方法、设备、微显示器件，通过活化表面、铪源吸附、配体促进、氧化成膜的循环步骤，在低温下沉积氧化铪薄膜。具体包括：利用氨等离子体活化基板表面；通入铪前驱体使其吸附；通入三氟乙酸与臭氧的混合气体，其中三氟乙酸作为酸性促进剂与吸附的铪前驱体发生配体交换生成活性中间体，臭氧随即在低温下将该中间体氧化为氧化铪。本发明通过引入配体促进步骤，改变了传统氧化路径，成功突破了高质量氧化铪薄膜的低温沉积瓶颈，特别适用于对温度敏感的微显示器件的薄膜封装，能在保护有机功能层的同时，发挥氧化铪高介电、低漏电、高热稳定的优势。本发明还提供了用于实施该方法的专用原子层沉积设备。

天眼查资料显示，安徽熙泰智能科技有限公司，成立于2016年，位于芜湖市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本27501.05万人民币。通过天眼查大数据分析，安徽熙泰智能科技有限公司共对外投资了9家企业，参与招投标项目45次，财产线索方面有商标信息9条，专利信息551条，此外企业还拥有行政许可10个。

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作者：情报员