国家知识产权局信息显示，京东方科技集团股份有限公司、北京京东方技术开发有限公司申请一项名为“一种发光器件及其制作方法、显示装置”的专利，公开号CN121986577A，申请日期为2024年8月。

专利摘要显示，一种发光器件及其制作方法、显示装置，发光器件包括：衬底基板(1)，以及层叠设置在衬底基板(1)上的第一电极(2)、第一载流子传输层(3)、发光层(4)、第二载流子传输层(5)和第二电极(6)；第一电极(2)包括多个间隔设置的第一通孔(H1)；发光器件还包括：位于第一通孔(H1)内且一端至少延伸至第一载流子传输层(3)内的栅电极(7)，以及位于栅电极(7)的至少部分侧壁和第一通孔(H1)的侧壁之间且覆盖各栅电极(7)部分表面的第一绝缘层(81)；其中，第一绝缘层(81)被配置为将栅电极(7)和第一电极(2)绝缘设置，第一绝缘层(81)还被配置为至少将栅电极(7)和第一载流子传输层(3)绝缘设置，栅电极(7)被配置为在发光器件工作时加载预设电压，预设电压小于加载在第一电极(2)上的电压且小于加载在第二电极(6)上的电压。

天眼查资料显示，京东方科技集团股份有限公司，成立于1993年，位于北京市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本3741388.0464万人民币。通过天眼查大数据分析，京东方科技集团股份有限公司共对外投资了73家企业，参与招投标项目329次，财产线索方面有商标信息790条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可47个。

北京京东方技术开发有限公司，成立于2016年，位于北京市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本3800万人民币。通过天眼查大数据分析，北京京东方技术开发有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目95次，专利信息4112条，此外企业还拥有行政许可4个。

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作者：情报员