来源：新浪证券-红岸工作室

5月8日消息，国家知识产权局信息显示，深圳市龙图光罩股份有限公司申请一项名为“一种掩膜版修补装置”的专利，授权公告号CN224190388U，授权公告日为2026年5月1日。申请号为CN202521004558.7，申请公布日期为2026年5月1日，申请日期为2025年5月21日，发明人武志伦、郭成恩，专利代理机构广东普润知识产权代理有限公司，专利代理师寇闯，分类号G03F1/72。

专利摘要显示，本实用新型提供一种掩膜版修补装置，包括运动平台、激光系统和成像系统，运动平台被配置为在平面内沿第一方向和/或第二方向运动；激光系统包括激光头和调节组件，激光头通过调节组件与运动平台连接，并位于运动平台的上方；成像系统包括图像采集单元，图像采集单元与激光头连接；图像采集单元被配置为采集掩膜版的图像信息，并根据掩膜版的图像信息控制运动平台运动；运动平台被配置为响应于图像采集单元采集的掩膜版的图像信息，以带动激光头随运动平台同步运动，以修补掩膜版。本装置中运动平台可根据图像采集单元所采集的掩膜版的待修复部位的图像信息带动激光头运动，以调节激光头对准待修复部位，方便用户操作，并确保修复合格率。

龙图光罩成立于2010年4月19日，于2024年8月6日在上海证券交易所上市，注册地址和办公地址均为广东省深圳市。该公司是国内半导体掩模版领域的重要企业，专注核心业务，具备一定技术实力与市场竞争力。

龙图光罩主营业务为半导体掩模版的研发、生产和销售，所属申万行业为电子 - 半导体 - 半导体材料，属于半导体材料概念、半导体、半导体产业等概念板块。

2025年，龙图光罩营业收入为2.47亿元，在行业26家企业中排名第26，远低于行业第一名有研新材的95.42亿元和第二名雅克科技的86.11亿元，也低于行业平均数19.89亿元和中位数11.14亿元。其主营业务中，石英掩模版收入2.05亿元，占比83.19%；苏打掩模版收入4100.79万元，占比16.63%；其他（补充）44.58万元，占比0.18%。净利润方面，2025年为5608.85万元，在行业中排名15/26，第一名雅克科技为10.3亿元，第二名江丰电子为4.14亿元，行业平均数为3265.85万元，中位数为8178.71万元。

深圳市龙图光罩股份有限公司近期专利情况如下：

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人1一种掩膜版修补装置实用新型授权CN202521004558.72025-05-21CN224190388U2026-05-01武志伦、郭成恩2能够防溅射的掩模版清洗设备实用新型授权CN202520807558.42025-04-25CN223986276U2026-03-10邵康节、白永智3掩模版侧壁检测装置以及刻蚀设备实用新型授权CN202520809184.X2025-04-25CN223985698U2026-03-10吴晓薇、郭成恩4掩模版位置精度测量方法、装置、设备、介质以及产品发明专利授权、公布CN202410841312.92024-06-27CN118392091B2024-09-03黄执祥、白永智、雷健、何祥、王栋5掩模版刻蚀方法、装置、设备以及存储介质发明专利授权、公布CN202410797921.92024-06-20CN118363258B2024-09-20雷健、黄执祥、王栋、白永智、柯汉奇6掩膜版修补机及其校正掩膜版位置的夹具实用新型授权、公布CN202421124141.X2024-05-21CN222259836U2024-12-27孟山、郑祺弘7一种废蚀刻液的排放装置实用新型授权、公布CN202421112368.22024-05-21CN222250985U2024-12-27牛志刚、白永智8贴膜方法、装置、终端设备以及存储介质发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202410147739.92024-02-02CN117682161B2024-04-19雷健、王栋、何俊龙、柯汉奇、何祥9掩膜版与薄膜贴合度检测方法、装置、设备以及存储介质发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202410139101.02024-02-01CN117663990B2024-04-19郭成恩、廖文超、郑祺弘、崔嘉豪、白永智10掩模版清洗方法、装置、终端设备以及存储介质发明专利发明专利申请公布后的驳回、实质审查的生效、公布CN202410123621.22024-01-30CN117644074A2024-03-05王栋、黄执祥、白永智、何俊龙、郑祺弘11曝光范围扩展方法、装置、终端设备以及存储介质发明专利授权、公布CN202410130232.22024-01-30CN117850172B2025-01-07黄执祥、雷健、何祥、孙世强、廖文超12刷洗装置实用新型授权CN202323427898.42023-12-14CN221847970U2024-10-18郑祺弘、张锋、韦文辉13净化盒自动封装装置实用新型授权CN202323398906.72023-12-13CN221341375U2024-07-16徐智、何祥、柯汉奇14掩膜版抓持装置实用新型授权CN202323412166.82023-12-13CN221478764U2024-08-06张锋、白永智、王栋15载具和清洁装置实用新型授权CN202323326704.12023-12-07CN221269152U2024-07-05周峰、孙世强、黄执祥16夹持机构和清洗装置实用新型授权CN202323326707.52023-12-07CN221288979U2024-07-09牛志刚、白永智、雷健17PSM掩模版白缺陷修补方法、设备及存储介质发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202311551979.72023-11-21CN117289544B2024-02-20何祥、雷健、黄执祥、崔嘉豪、郑祺弘18图形辅助的干法刻蚀装置及方法发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202311542929.22023-11-20CN117270317B2024-02-09王栋、白永智、何俊龙、柯汉奇、杨勤丰19掩模版贴膜方法、装置及存储介质发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202311542933.92023-11-20CN117261271B2024-02-20雷健、黄执祥、王栋、何祥、郭成恩20显影方法及显影装置发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202311534950.82023-11-17CN117311106B2024-02-09白永智、何俊龙、廖文超、孙世强、柯汉奇21掩模版贴膜设备实用新型授权CN202323006794.62023-11-07CN221049030U2024-05-31郭成恩、黄崇昌、毛翔22EAPSM掩模版及其制造方法发明专利发明专利申请公布后的驳回、实质审查的生效、公布CN202311398106.72023-10-26CN117311079A2023-12-29黄执祥、王栋、雷健、白永智、何祥23夹具实用新型授权CN202322782965.82023-10-16CN221436231U2024-07-30雷健、郑巍峰、李伟艺24掩模版缺陷处理装置、方法以及终端设备发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202310387421.32023-04-12CN116088265B2023-06-09何祥、雷健、崔嘉豪、柯汉奇、张成忠25掩模版预校准方法、系统、电子设备以及可读存储介质发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202310387417.72023-04-12CN116088283B2023-06-30白永智、雷健、谢超、何祥、何俊龙26掩模版的对位校准方法、装置、设备及存储介质发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202310379785.72023-04-11CN116107179B2023-06-13黄执祥、谢超、孙世强、雷健、崔嘉豪27掩模版刻蚀设备、方法、系统及计算机可读存储介质发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202310379779.12023-04-11CN116107156B2023-06-23王栋、黄执祥、白永智、孙世强、周峰28一种掩模版上金属引导器的去除装置实用新型授权CN202223403563.42022-12-19CN219202124U2023-06-16郭成恩、谢超29一种掩模版后处理设备的离子残留控制装置实用新型授权CN202223486175.72022-12-19CN219285588U2023-06-30雷健、白永智30一种功率半导体掩模版清洗的批量传输装置实用新型授权CN202223403501.32022-12-19CN219273826U2023-06-30黄执祥、王栋31一种DUV用掩模版无接触卸载保护膜的装置实用新型授权CN202223403545.62022-12-19CN219609435U2023-08-29郑祺弘、孙世强32掩模版清洗用超纯水系统及检测方法发明专利发明专利申请公布后的驳回、著录事项变更、实质审查的生效、公布CN202210922128.82022-08-02CN115286154A2022-11-04黄执祥、侯广杰、郑巍峰33超结MOS器件OPC掩模版制作方法及装置发明专利著录事项变更、实质审查的生效、公布CN202210453660.X2022-04-27CN114690542A2022-07-01黄执祥、王栋、侯广杰34IGBT沟槽工艺掩模版专用装置及使用方法发明专利发明专利申请公布后的驳回、著录事项变更、实质审查的生效、公布CN202210445298.12022-04-26CN114815518A2022-07-29王栋、谢超、侯广杰35掩模护膜、掩模护膜移除方法以及掩模护膜移除装置发明专利授权、著录事项变更、实质审查的生效、公布CN202210446397.12022-04-26CN114815519B2023-07-21侯广杰、黄执祥、谢超36半导体芯片用掩模版膜下异物清理方法及设备发明专利专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权、实质审查的生效、公布CN202210353462.62022-04-06CN114433570B2022-06-21王栋、柯汉奇、谢超、白永智37半导体芯片用掩模版贴膜精度检测方法及检测装置发明专利专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权、实质审查的生效、公布CN202210340199.72022-04-02CN114445402B2022-06-24黄执祥、柯汉奇、王栋、孙世强38半导体芯片用相移掩模版光刻胶烘烤方法及存储介质发明专利专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权、实质审查的生效、公布CN202210340217.12022-04-02CN114488723B2022-07-01侯广杰、柯汉奇、叶小龙、王栋39半导体芯片用掩模版传送装置及其传送方法发明专利专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权、实质审查的生效、公布CN202210336511.52022-04-01CN114408518B2022-08-19谢超、柯汉奇、黄执祥、张道谷40掩模版制造装置发明专利发明专利申请公布后的驳回、实质审查的生效、公布CN202111052413.02021-09-08CN113655688A2021-11-16叶小龙、侯广杰、黄执祥、谢超41曝光方法以及曝光装置发明专利发明专利申请公布后的驳回、实质审查的生效、公布CN202111052400.32021-09-08CN113703280A2021-11-26侯广杰、叶小龙、王栋、谢超42掩模版辅助静态图像测量装置及掩模版静态图像测量系统发明专利专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权、实质审查的生效、公布CN202111052415.X2021-09-08CN113758420B2022-06-14侯广杰、叶小龙、黄执祥、谢超43UT曝光机用掩模版的制作装置及方法发明专利发明专利申请公布后的驳回、实质审查的生效、公布CN202111046069.42021-09-07CN113703279A2021-11-26叶小龙、侯广杰、王栋、黄执祥44光刻机参数状态检测方法、装置、设备及其存储介质发明专利专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权、实质审查的生效、公布CN202111046088.72021-09-07CN113703289B2022-06-03叶小龙、侯广杰、谢超、王栋45曝光设备正交性检测方法发明专利专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权、实质审查的生效、公布CN202111044702.62021-09-07CN113703283B2022-11-15侯广杰、叶小龙、黄执祥、王栋46掩膜版上版装置及光刻机实用新型专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权CN202121922406.72021-08-16CN215376087U2021-12-31叶小龙、刘宇琪47自动后处理机的恒温净化供水装置实用新型专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权CN202121935646.02021-08-16CN215365285U2021-12-31叶小龙、孟山48掩模版原材料恒温装置实用新型专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权CN202121906718.92021-08-13CN215708233U2022-02-01黄执祥、孙世强49掩模版缺陷无痕去除方法、装置、设备及其存储介质发明专利专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权、实质审查的生效、公布CN202110930984.32021-08-13CN113671790B2022-06-14叶小龙、黄执祥、王栋50掩模版曝光过程表面颗粒实时清除装置发明专利专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权、实质审查的生效、公布CN202110930986.22021-08-13CN113625529B2022-07-22侯广杰、谢超、叶小龙

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