国家知识产权局信息显示,肖特股份有限公司申请一项名为“包括具有高耐日晒性的光束引导元件的成像系统”的专利,公开号CN121995552A,申请日期为2021年5月。
专利摘要显示,本发明涉及一种成像系统,其包括至少一个具有在可见光谱范围的波长的激光光源和在高光束功率密度具有高耐日晒性的光束引导元件。本发明还涉及成像系统的用途,特别是在投影仪和材料处理中的用途。
声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。
本文源自:市场资讯
作者:情报员
国家知识产权局信息显示,肖特股份有限公司申请一项名为“包括具有高耐日晒性的光束引导元件的成像系统”的专利,公开号CN121995552A,申请日期为2021年5月。
专利摘要显示,本发明涉及一种成像系统,其包括至少一个具有在可见光谱范围的波长的激光光源和在高光束功率密度具有高耐日晒性的光束引导元件。本发明还涉及成像系统的用途,特别是在投影仪和材料处理中的用途。
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