国家知识产权局信息显示，恩特格里斯公司申请一项名为“用于高度掺杂硼的硅膜的基于钛氧化物的化学机械抛光组合物”的专利，公开号CN122003477A，申请日期为2024年8月。

专利摘要显示，本发明提供一种化学机械抛光组合物，其包含：(a)钛氧化物研磨剂；(b)氧化剂；和(c)水，其中所述化学机械抛光组合物具有约7或更小的pH。本发明还提供一种使用所述组合物化学机械抛光衬底的方法，所述衬底尤其是包含衬底表面上的掺杂硼的多晶硅层的衬底。

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作者：情报员