前言:关于铜箔,之前公众号发的《》《》《》已分享相关思路,也是同一AI算力上游框架下的持续跟踪,其中温州宏丰和中国巨石近期走势凌厉。

温州宏丰三天涨超36%(5月8日20cm大长腿),铜箔逻辑正被市场逐步认可:

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顺着这条主线,后续我们还会陆续研究石英、mlcc(片式多层陶瓷电容器)、锡膏等上游材料,敬请关注。以下是铜箔的深度报告,理解产业逻辑才能看清这轮行情的真实成色。

核心矛盾:冰火两重天

铜箔行业当前最尖锐的矛盾,是AI驱动的极致高端化需求爆发,与过去三年低端产能大跃进导致的惨烈亏损之间的结构性撕裂。

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火的这一端

全球AI服务器出货量正在进入加速上行通道。2026年全球AI服务器出货量出货量预计达到236.9万台,预计同比增长28%以上,2022-2026年复合增速高达29%。高盛则在4月最新报告中上调预测,将2026-2028财年全球AI服务器(8-GPU当量)出货量分别上调至101.6万、127.2万和150.6万台。(注:TrendForce与高盛口径不同,前者含所有AI服务器,后者特指8-GPU高功率机型。)

每一台AI服务器的PCB层数从传统服务器的8-12层飙升至16-18层以上,高端算力板直奔30层+,对高速覆铜板的需求是普通服务器的8倍以上。传导到最上游,就是对铜箔表面粗糙度的极致要求——HVLP铜箔粗糙度需控制在2μm以内,高端品级甚至低于0.5μm。

结果:全球AI服务器用PCB铜箔复合增速高达36%,是传统铜箔增速(8.5%)的4倍以上。

具体数据印证了这种爆发态势:

→铜冠铜箔HVLP产量同比增长232%,高频高速基板用铜箔供不应求

→2026年Q2,高端HVLP铜箔均价突破38万元/吨,较年初涨幅超30%

→高端铜箔市场规模同比增幅达42.8%,而常规标准铜箔仅增长3.2%

→2026年3月,国内电子电路铜箔月产量已达5.01万吨,环比持续攀升

冰的这一端

与高端市场的火爆形成鲜明对比的是低端产能的血海。2024年全行业大面积亏损——各公司年报已验证:

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设备端的关键变量

泰金新能率先研制成功全球首台Φ3600mm超大直径阴极辊(电解铜箔生产中的核心设备,通常为钛制辊筒,在电解过程中作为阴极,铜离子在其表面沉积形成铜箔),2024年阴极辊出货量达365台,国内市场占有率超过45%,国产设备整体市占率突破90%,彻底打破日系长达30年的垄断,从设备端保障了国内高端铜箔扩产的战略安全。该公司于2026年3月31日登陆科创板,连涨七天。

趋势判断

核心矛盾预计未来1-2年达顶峰,之后随低端出清和高端放量结构性缓解。受益者是能稳定量产HVLP4及以上并通过头部CCL认证的厂商。受损者是产能集中在低端标准铜箔、缺乏升级能力的中小厂商。

纵向复盘:从锂电泡沫到AI救赎

周期全景

上一轮周期(2020-2024)的顶峰在2022年,见顶信号有三:跨界资本疯狂涌入、2023年新增规划产能53万吨、铜箔加工费持续下行。2023年下半年起行业经历持续18个月下行周期,2024年达到底部——全行业巨亏,新开工项目几近于无。

活下来的企业做对了一件事:在行业亏损时依然集中资源投入高端产品研发。铜冠铜箔、德福科技、嘉元科技在2024年亏损最惨烈时均保持了超过9000万元的研发投入,这为后续HVLP产品的突破奠定了基础。

驱动力变迁

本轮周期的核心驱动力已从"锂电单核"变为"AI算力+高端锂电"双核驱动。

锂电端同样景气回升,据Mysteel数据,2026年4月国内电解铜箔预计产量13.93万吨,环比增加0.72%,其中锂电铜箔8.82万吨。4.5μm锂电铜箔加工费全国均价稳定在25,500元/吨,6μm锂电铜箔加工费19,500元/吨,均处于修复通道。

电子电路铜箔端,2026年全年预计调价2-3次,累计涨幅20%-30%。2026年3月建滔集团发布涨价通知:铜箔加工费全线上涨10%,日本三井金属宣布拟调涨半导体极薄铜箔价格:2026年3月,三井宣布与客户展开价格谈判,拟调涨用于AI服务器的MicroThin价格,并计划2027年度月产能扩至520万平方米。

产业链利润池:钱在哪个环节被赚走

各等级产品毛利率对比

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关注几个价格:

RTF-3加工费:约3-10万元/吨

HVLP系列加工费:约5-20万元/吨。2026年Q2高端HVLP成品售价(含铜价约7.5万元/吨)突破38万元/吨,对应加工费约30万元/吨

进口HVLP代理价:甚至达到70-120万元/吨(含铜)

低端HTE加工费:仅1.2-1.8万/吨(18μm HTE加工费全国均价约2万元/吨,35μm约1.8万元/吨)

高端HVLP的加工费水平是低端HTE的10倍以上,毛利率差距显著。载体铜箔更是产业链利润最厚的环节。三井金属的MicroThin极薄铜箔几乎垄断全球90%以上份额,德福科技是国内首家实现载体铜箔量产导入的企业。

风险点

→若日系后处理设备(决定HVLP铜箔的表面粗糙度、均匀性、抗氧化性与耐热性,是生产高性能电子铜箔的必要环节,长期被日系企业主导)断供三个月:国内HVLP扩产将大面积停滞,目前国产替代率仍较低。

→若英伟达下一代架构转向非铜方案(如光互联):高端铜箔市场空间将被大幅压缩。但短期内(3-5年),有机PCB仍是AI服务器的绝对主流,112Gbps/224Gbps信号速率仍需铜箔作为传输介质。

竞争格局:寡头替代+技术卡位

市场集中度

国内电子电路铜箔CR3、CR5、CR10分别为43%、54%、76%。建滔以21%居首,南亚15%,铜冠7%。(CR为市场集中度)

全球高端HVLP仍被日系垄断——三井金属全球HVLP市占率近35%,与福田金属、古河电工、日进等日系厂商合计掌控全球高端市场绝大部分份额。国内可稳定量产HVLP的内资企业不超过5家,国产化率仅5%-10%。

HVLP4供需缺口:

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供给约束短期内难以解除。全球可量产HVLP4的厂商仅限于三井、福田、古河、金居等少数几家,新建产能从设备下单到量产通常需18-24个月。

竞争维度迁移

竞争维度已从成本+规模彻底迁移至粗糙度控制能力+设备供应链管理+客户体系认证深度。过去3-5年,几无新玩家能切入高端拿到可观份额——认证周期通常在12-18个月以上,且需通过松下、生益科技等头部CCL厂商的严苛验证。

高端领域,铜冠、德福、龙电华鑫已形成第一梯队:

→铜冠铜箔HVLP1-4代量产,HVLP5中试送样。

→德福科技RTF1-5代+HVLP1-4代全面量产,HVLP5样品认证推进中,载体铜箔已量产导入。

核心标的

一、泰金新能——铜箔核心设备国产替代龙头

2025年营收:23.95亿元;2025年净利润:2.04亿元

上市时间:2026年3月31日科创板上市,发行价26.28元/股

核心看点:

1、阴极辊市占率超45%,国产设备整体市占率突破90%

2、全球唯一实现3.6米超大阴极辊产业化的企业

3、全球唯一提供4-6μm极薄铜箔整线装备的企业

4、深度绑定AI算力赛道,3D陶瓷封装外壳已小批量进入CPO设备领域

5、5月6日收盘价110.88元(+20%),连涨7天

二、铜冠铜箔——国产HVLP铜箔领跑者

2025年营收:66.89亿元(+42%);2025年净利润:6,265万元(同比扭亏)

2026年Q1净利润:1.06亿元(+2138%)——单季利润已超2025年全年

核心看点:

1、HVLP产量同比暴增232%

2、PCB铜箔收入37.04亿(+33.74%)

3、境外收入从588万暴增至1.80亿——海外高端市场突破明显

4、HVLP1-4代量产,HVLP5中试并送样

5、5月6日股价创历史新高

三、德福科技——规模+技术双轮龙头

2025年营收:124.37亿元(+59.33%),2025年净利润:1.13亿元(+145.91%,扭亏)

2026年Q1净利润:1.47亿元(+708.9%)——单季利润超2025年全年

核心看点:

1、RTF1-5代+HVLP1-4代全面量产,HVLP5样品认证中

2、载体铜箔已量产导入——国内首家突破,直接挑战三井垄断

3、3μm超薄载体铜箔通过国内存储芯片龙头认证并批量供货

4、17.5万吨/年产能,居内资第一梯队

5、2026年Q1营收43.38亿(+73.47%),量价齐升

结构化紧缺的通用逻辑

"高端挤占低端"效应

贯穿本轮整个高端材料产业链的核心逻辑:当HVLP利润数倍于HTE,厂商主动将产能向高端倾斜,HTE被动收缩导致全品类供应紧张。

同样的逻辑已在多个材料领域反复验证:

→PPO/碳氢树脂替代通用环氧树脂

→HBM挤占DDR产能

→高频高速CCL挤占标准FR-4产能

重资产强周期行业的拐点信号

经历3年以上全行业亏损→资本开支骤停→高端产品营收翻倍增长——这通常意味着行业正处于"供给出清尾端"与"需求结构爆发"的共振窗口。

铜冠铜箔从2024年亏损1.56亿到2026年Q1单季盈利1.06亿(+2138%),德福科技从亏损2.45亿到2026年Q1盈利1.47亿(+709%),嘉元科技从亏损2.39亿到2026年Q1预计盈利1.21亿(+393%),这一"集体巨亏→集中扭亏→利润暴增"的节奏,正是结构拐点的最强注脚。

2026年供需格局展望

边际需求增量:约25-30万吨

锂电端(行业约30%增速+产品减薄趋势):约20-25万吨

电子电路端(高端RTF/HVLP受AI拉动):约4万吨

有效供给增量:约10万吨(在建16-17万吨,实际可投产有限)

新增需求显著大于供给增量,2026年供需格局较2025年更为紧张,加工费仍有上行空间。