国家知识产权局信息显示,江苏日久光电股份有限公司申请一项名为“减反射膜及其制备方法”的专利,公开号CN122018054A,申请日期为2025年12月。

专利摘要显示,本发明公开了一种减反射膜及其制备方法,减反射膜包括依次层叠设置的基材层、加硬层、光学树脂涂层、粘结层和增透层;其中,所述增透层为多孔氧化硅镀层,孔隙率为38%‑42%,折射率为1.281‑1.300。本发明采用干湿结合的方法,在基材上涂布形成加硬层和光学树脂涂层,并通过磁控溅射工艺和蚀刻方法形成纳米多孔氧化硅层,通过控制所用硅合金靶材中的硅质量比调控纳米多孔氧化硅层的孔隙率,实现对折射率数值的调控;同时配合光学模拟对多层膜系进行优化设计,最终达成超低折射率的目标。该种方法不仅提高了效率,而且降低了成本,在减少膜层总厚度的同时实现了超低反射率

天眼查资料显示,江苏日久光电股份有限公司,成立于2010年,位于苏州市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本28106.6667万人民币。通过天眼查大数据分析,江苏日久光电股份有限公司共对外投资了2家企业,参与招投标项目2次,财产线索方面有商标信息14条,专利信息246条,此外企业还拥有行政许可16个。

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作者:情报员