爱思开海力士申请半导体封装件制造方法专利,平坦化前导电凸块的上部
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国家知识产权局信息显示,爱思开海力士有限公司申请一项名为“半导体封装件的制造方法”的专利,公开号CN122074013A,申请日期为2025年5月。
专利摘要显示,本公开涉及半导体封装件的制造方法。一种半导体封装件的制造方法,包括:在包括彼此相对的第一表面和第二表面的衬底中形成贯通电极;在衬底的第一表面上形成前导电凸块;对前导电凸块进行回流焊;以及在对前导电凸块进行回流焊之后平坦化前导电凸块的上部。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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