中微半导体设备（上海）股份有限公司（688012.SH）收购杭州众硅电子科技有限公司64.69%股权的并购项目，近日正式获得中国证监会注册批复。并购完成后，中微公司将成为国内少数同时覆盖干法刻蚀与湿法抛光两大工艺环节的半导体设备平台。

中微公司公告称，这是公司“集团化”和“平台化”发展战略的关键一步。

杭州众硅是国内极少数掌握12英寸高端化学机械抛光（CMP）设备核心技术并实现量产的企业，已向国内重要半导体制造厂商供货。

中微公司由被称为“中国刻蚀机之父”的尹志尧创办。尹志尧60岁时从海外归国创业，彼时“签字画押，不许带任何文件”，完全从零起步。22年后，中微公司在干法刻蚀设备市场与泛林半导体、东京电子、应用材料等国际巨头同处第一梯队，刻蚀和薄膜沉积设备已进入台积电5纳米、3纳米先进制程供应链。据尹志尧在央视财经《对话》栏目中披露，中微公司已有800个反应台进入国际最先进生产线。尹志尧首创的甚高频去耦合反应离子刻蚀技术，已被全球三大设备公司采用，目前100%的CCP刻蚀机都基于这一技术路线。

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本文源自：市场资讯

作者：听潮