2026年5月24日，荷兰驻韩国大使范德弗利特（Peter van der Vliet）在接受《日经亚洲》采访时，对全球光刻技术格局做出了一次引人关注的表态。
他明确表示，全球多个地区都在布局下一代光刻技术研发，这是科技竞争中的常态，荷兰并没有单独针对中国。
荷兰方面“已知晓中国在自研光刻机”的进程，但认为这属于全球科技竞争的正常态势，不会对ASML的行业地位造成根本性影响。
此番表态的背景颇为微妙。就在不久前的5月20日，ASML首席执行官富凯刚在比利时安特卫普公开呼吁，应为芯片制造设备对华出口制定更为一致的规则。
今年4月，美国国会跨党派议员提出一项法案，要求在现有EUV全面禁售的基础上，将浸没式DUV等设备也纳入对华全面限制范围。而荷兰政府对此已明确表示反对。
美国国会提出进一步收紧DUV出口限制，荷兰政府明确表示反对。大使在首尔的这番讲话，既是对外界关于“荷兰联手美国围堵中国半导体”质疑的回应，也透露出荷兰在出口管制压力下主动调整全球战略布局的方向。
范德弗利特所谓“不针对中国”的表态，背后有一组关键数据支撑。受出口管制政策直接影响，ASML在中国市场的销售占比出现断崖式下滑。2025年第四季度，中国市场仍占ASML净系统销售额的36%，但到了2026年第一季度，这一数字已降至19%。
ASML今年1月曾预测，2026年全年中国市场销售额占比约为20%，较2025年的33%显著回落。据中国海关总署统计，今年第一季度中国从荷兰进口的光刻设备金额同比大幅下降。ASML在中国DUV光刻机市场的占有率，已从2022年的约85%骤降至2025年的约52%。
富凯在5月20日的发言中直言不讳地指出，收紧出口管制只会加速中国自主研发替代设备的步伐。他用了一个形象的比喻：“如果我将你放到沙漠里，告诉你今后再也没有食物来源了——你需要多久才开垦出自己的菜园？这是存亡的问题。”
韩国在今年第一季度以约45%的占比反超中国，正式成为ASML全球最大的单一市场。正是在这一背景下，荷兰选择将战略重心向韩国加速转移。
就在范德弗利特做出上述表态的同时，中国国产光刻机正在进入关键突破期。
2026年5月，上海微电子装备（集团）股份有限公司自主研发的SSA800系列28nm浸没式深紫外（DUV）光刻机已进入量产工艺验证阶段，该设备已交付中芯国际等国内头部晶圆代工厂进行产线集成测试，芯片良率稳定在90%以上。
根据公开技术参数，SSA800系列采用193nm ArF浸没式光刻技术，单次曝光原生支持28nm制程节点，通过多重曝光工艺可稳定实现14nm及更先进逻辑芯片的制造。
三大核心子系统——照明系统、投影物镜和双工件台——均已实现国产自研自产，整机国产化率超过85%。目前全球约70%的芯片依赖28nm及以上成熟制程，涵盖汽车电子、家电工控、物联网等广泛领域，SSA800的量产将有效支撑国内庞大扩产需求。
国产光刻机在成熟制程领域的进口替代效应正在加速显现。据行业分析，受美日荷出口管制影响，2026年进口DUV光刻机数量预计同比下降约50%。相比之下，国产设备凭借约40%的成本优势和更短的交付周期，正快速获得国内晶圆厂青睐。
ASML当前面临的战略困境颇为复杂。一方面，ASML在全球EUV光刻机领域仍然拥有无可替代的垄断地位。据最新财报，ASML手握大量订单，主要来自韩国、美国等市场，韩国在2026年第一季度已成为其最大客户市场。
另一方面，ASML首席执行官富凯清醒地认识到，过度收紧对华出口只会刺激中国加速自主研发。他直言，ASML目前向中国出售的DUV设备本身就是基于2015年前后的技术，为较早代际的芯片技术。如果进一步收紧限制，只会加速中国自主研发替代设备的步伐。
从更长远的视角来看，ASML一方面要面对美国不断加码的出口管制压力，配合政策限制对华供货；另一方面又在承受中国市场快速萎缩的直接冲击，以及中国自研光刻机技术加速突破带来的长期竞争风险。这条钢丝并不好走。
范德弗利特大使的这番表态——声称“不针对中国”的同时加速布局韩国——揭示了当前全球半导体博弈中的深层逻辑。
从短期来看，荷兰的战略转向确实有其商业合理性。中国市场受出口管制影响持续收缩，韩国凭借三星和SK海力士的强劲需求顺势成为ASML最大的订单来源，荷兰将资源向韩国倾斜，是商业利益驱动下的现实选择。
但从中长期来看，技术封锁正在催生出其制定者最不愿看到的结果——中国半导体装备的自主替代正在提速。从28nm DUV光刻机进入量产验证，到整机国产化率突破85%，再到成熟制程领域逐步摆脱对进口设备的依赖，出口管制的“反向效应”正日益显现。
荷兰方面提前布局光子技术等下一代技术路线，韩荷之间从设备、人才到供应链预警的全方位绑定，都表明围绕先进半导体技术的全球博弈已经进入到更深层次的阶段。这场博弈的最终走向，将不仅影响ASML的市场地位，更将重塑全球半导体供应链的整体格局。
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