默克申请用于制备含有金属氧化物的光学层制剂专利,所述制剂可用于纳米技术工艺以制造半导体器件/显示器件应用
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国家知识产权局信息显示,默克专利有限公司申请一项名为“用于制备含有金属氧化物的光学层的制剂”的专利,公开号CN122095274A,申请日期为2024年10月。
专利摘要显示,本发明涉及一种用于制备含有金属氧化物的光学层的制剂。所述制剂可表现出作为高级材料或作为高性能材料的特性中的至少一种。所述制剂可用于纳米技术工艺以制造半导体器件/显示器件应用,例如半导体芯片、或液晶、量子点、在由半导体控制的基底上制造的OLED显示器。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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