《南华早报》近日报道称,曾长期在日本从事先进半导体研究的中科大校友达博,已离开日本国立材料科学研究所(NIMS),回到中国科学技术大学任职工程科学学院讲席教授。

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​报道提到,达博的研究方向涉及先进半导体材料、电子束设备及刻蚀相关核心部件,其成果曾参与支撑台积电日本3nm产线部分关键环节,因此在业内受到关注。自2022年以来,他也是少数深度参与国际先进制程一线项目的中国籍研究人员之一。

​公开资料显示,达博2013年从中国科学技术大学博士毕业后赴日本NIMS从事博士后研究,随后迅速晋升,成为该机构历史上最年轻的独立PI(Principal Investigator,独立课题负责人)之一。他还曾在NIMS内部组建一支以中科大毕业生为主的研究团队,并计划未来整体回国发展。

​在中国媒体DeepTech今年5月发布的采访中,达博表示,自己的目标一直很明确:如果能够推动中国半导体设备、材料和关键零部件达到国际先进水平,“那自己的终身努力就是值得的”。这一表态也被外界视为中国近年来半导体人才回流趋势的一个缩影。