国家知识产权局信息显示，合肥埃科光电科技股份有限公司申请一项名为“一种相位偏折成像系统、方法、电子设备和存储介质”的专利，公开号CN122108001A，申请日期为2026年2月。

专利摘要显示，本申请提供了一种相位偏折成像系统、方法、电子设备和存储介质，涉及光学测量领域。本系统包括投影光源模块，用于将复合彩色正弦条纹图案投射至被测物表面；棱镜相机，分离为不同颜色的单色光图像；上位机控制与处理模块，用于根据不同偏振方向的光强信息计算出单色光图像的线偏振度，基于预设的偏振阈值和所述线偏振度确定被测物表面的高反光区域；基于单色光图像的总光强和预设的像素饱和阈值计算出高反光区域的光强衰减系数，用于根据光强衰减系数调节复合彩色正弦条纹图案的投影强度。由此，利用多个波长的条纹图同时照明样品，以及采集多角度偏振条纹图像调节高反光区域的投影强度，提高了相位偏折术对高反光物体的测量速度和精度。

天眼查资料显示，合肥埃科光电科技股份有限公司，成立于2011年，位于合肥市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本6800万人民币。通过天眼查大数据分析，合肥埃科光电科技股份有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目27次，财产线索方面有商标信息28条，专利信息424条，此外企业还拥有行政许可19个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

本文源自：市场资讯

作者：情报员