国家知识产权局信息显示，上海新微技术研发中心有限公司申请一项名为“一种多级非等高结构的制造方法”的专利，公开号CN122102049A，申请日期为2024年11月。

专利摘要显示，本发明提供一种多级非等高结构的制造方法，包括：提供衬底；在所述衬底上不同区域待形成的硅结构具有N个不同的高度，对应在所述衬底的正面依次形成N层图形化的掩膜层，根据所述待形成的硅结构的高度确定所述不同区域上堆叠的所述掩膜层的层数；以所述掩膜层为刻蚀掩膜依次进行N次刻蚀，每次刻蚀后去除下一次待刻蚀区域上方的所述掩膜层；去除剩余的所述掩膜层，得到所述多级非等高结构。本方法降低了对喷胶作业的依赖性，且易于形成更多级的非等高结构。

天眼查资料显示，上海新微技术研发中心有限公司，成立于2013年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本144416万人民币。通过天眼查大数据分析，上海新微技术研发中心有限公司共对外投资了20家企业，参与招投标项目498次，财产线索方面有商标信息52条，专利信息865条，此外企业还拥有行政许可47个。

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作者：情报员