国家知识产权局信息显示，斯韦夫有限公司申请一项名为“用于光调制的系统和方法”的专利，公开号CN122139152A，申请日期为2024年8月。

专利摘要显示，本公开提供了一种用于调制光的装置，所述装置包括具有设置在其顶部表面上的多个电互连件的基板以及设置在所述基板之上的光调制元件阵列。所述装置的光调制元件包括光调制元件阵列，所述光调制元件阵列包括布置在所述基板上的底部电极，其中底部电极耦合到所述多个电互连件中的电互连件，第一电介质层的底部表面位于所述底部电极上方，以及覆盖所述第一电介质层的顶部表面的量子阱层。然后，第二电介质层设置为覆盖所述量子阱层的顶部表面，其中所述光调制元件阵列的每个光调制元件与所述阵列的每个其他光调制元件在空间上分离，并且顶部电极位于所述光调制元件阵列顶上。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

本文源自：市场资讯

作者：情报员