周星工程申请基板处理设备和基板处理方法专利,气体喷射器包括在第一喷射器、第二喷射器和第三喷射器中的一者或两者以上中形成等离子体的等离子体电极
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国家知识产权局信息显示,周星工程股份有限公司申请一项名为“基板处理设备和基板处理方法”的专利,公开号CN122161956A,申请日期为2024年11月。
专利摘要显示,本公开涉及一种基板处理设备和基板处理方法。基板处理设备包括:腔体、安装包括三个以上基板的多个基板的基座以及朝向多个基板喷射气体的气体喷射器,其中气体喷射器包括:喷射源气体的第一喷射器、喷射反应气体的第二喷射器以及喷射表面处理气体的第三喷射器,气体喷射器包括在第一喷射器、第二喷射器和第三喷射器中的一者或两者以上中形成等离子体的等离子体电极。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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