国家知识产权局信息显示,北京北方华创微电子装备有限公司申请一项名为“一种防护结构、工艺腔室、防护件及半导体工艺设备”的专利,公开号CN122158436A,申请日期为2024年12月。
专利摘要显示,本申请公开了一种防护结构、工艺腔室、防护件及半导体工艺设备,用于设置于工艺腔室的内侧壁,防护结构包括:内衬基体,用于设置于内侧壁;防护件,设置于内衬基体远离内侧壁的一面,防护件由AlN基陶瓷材料制作,并且远离内衬基体的一面设有抗等离子体腐蚀层。本申请的抗等离子体腐蚀层是形成于AlN基陶瓷件上,并非直接形成于基底上,在制作抗等离子体腐蚀层时,不会发生AlN基陶瓷板破裂而导致工艺时抗等离子体腐蚀层随着破碎的AlN基陶瓷板一起脱落而对晶圆造成污染的问题。本申请抗等离子体腐蚀层可以实现与内衬基体的更致密腐蚀气体隔离,将工艺环境的损伤降到最低,大大延长了工艺腔室的维护周期,降低相关零件的维护成本。
天眼查资料显示,北京北方华创微电子装备有限公司,成立于2001年,位于北京市,是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本114153.708311万人民币。通过天眼查大数据分析,北京北方华创微电子装备有限公司共对外投资了7家企业,参与招投标项目1429次,财产线索方面有商标信息73条,专利信息5000条,此外企业还拥有行政许可340个。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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