国家知识产权局信息显示，盛吉盛（韩国）半导体科技有限公司申请一项名为“监测腔室的清洁工序的方法及装置”的专利，公开号CN122189603A，申请日期为2025年8月。

专利摘要显示，本发明的腔室的清洁工序监测方法提供：高频电源供给步骤，应对在所述腔室内结束清洁(Cleaning)工序后开始进行陈化(Seasoning)工序，向所述腔室内部供给高频电源；阻抗匹配步骤，为了实现所述腔室内部的阻抗匹配而对所述高频电源的频率进行调节；腔室异常判断步骤，判断所述调节后的频率是否脱离第一频段，来判断所述腔室内部是否发生异常；以及警告输出步骤，输出由所述腔室内部发生异常引起的警告提醒，由此，可以减少不必要的再加工，并预测工序时间，从而可以有效地树立生产计划。

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作者：情报员