国家知识产权局信息显示，冯阿登纳真空设备（上海）有限公司申请一项名为“磁控管磁体系统、磁控溅射设备和磁控管磁体系统的制备方法”的专利，公开号CN122256896A，申请日期为2026年4月。

专利摘要显示，本发明实施例提供了一种磁控管磁体系统、磁控溅射设备和磁控管磁体系统的制备方法，涉及镀膜技术领域，该磁控管磁体系统包括壳体以及设置在腔室中的磁体，腔室内形成真空，磁体暴露于真空中。相较于现有技术中，本发明通过壳体提供整体的密封环境，能够实现磁铁组件与冷却水的有效隔离；通过换气通道将阻滞气体抽出，以使腔室中形成真空。整体达到延长使用寿命、提供稳定磁场、避免产品不稳定的目的。

天眼查资料显示，冯阿登纳真空设备（上海）有限公司，成立于2006年，位于上海市，是一家以从事电信、广播电视和卫星传输服务为主的企业。企业注册资本150万美元。通过天眼查大数据分析，冯阿登纳真空设备（上海）有限公司参与招投标项目10次，专利信息6条，此外企业还拥有行政许可21个。

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作者：情报员