国家知识产权局信息显示，英特尔公司申请一项名为“用于EUV光刻的硼酸铋化合物”的专利，公开号CN122318828A，申请日期为2025年11月。

专利摘要显示，提供了适用于极紫外光刻（EUV）应用的金属氧化物材料。金属氧化物材料可包含不同尺寸的硼酸铋氧化物簇和/或配位化合物。还提供了适用于EUV半导体加工应用的、形成包含铋和硼的金属氧化物材料的方法。

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作者：情报员