国家知识产权局信息显示，上海御微半导体技术有限公司申请一项名为“一种光轴姿态校准方法和套刻量测设备”的专利，公开号CN122308024A，申请日期为2026年3月。

专利摘要显示，本发明属于半导体检测技术领域，具体涉及一种光轴姿态校准方法和套刻量测设备。套刻量测设备包括基准版，基准版上设置有对光轴的姿态变化具有灵敏度的基准标记，基准版设置在工件台以外的区域，光轴姿态校准方法包括：在光轴初始姿态下，获取基准标记的第一套刻量测值，作为基准套刻量测值，确定基准标记对光轴初始姿态的预设灵敏度；周期性地获取基准标记的第二套刻量测值，基于第二套刻量测值与基准套刻量测值确定套刻量测值变化量；基于套刻量测值变化量以及预设灵敏度，计算当前光轴姿态相对于光轴初始姿态的姿态变化量；根据姿态变化量，调整光轴姿态至光轴初始姿态，以补偿因光轴姿态变化引起的套刻误差。

天眼查资料显示，上海御微半导体技术有限公司，成立于2019年，位于上海市，是一家以从事零售业为主的企业。企业注册资本31200万人民币。通过天眼查大数据分析，上海御微半导体技术有限公司参与招投标项目47次，财产线索方面有商标信息45条，专利信息110条，此外企业还拥有行政许可15个。

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作者：情报员