国家知识产权局信息显示，AM电池公司申请一项名为“用于均匀沉积涂层的系统”的专利，公开号CN122341776A，申请日期为2024年9月。

专利摘要显示，提供了一种用于粉末涂覆的系统。该系统包括限定近端和远端的容纳外壳。该系统包括基底，该基底包括待涂覆粉末涂层的表面。基底在从容纳外壳的近端至远端的方向上移动。该系统包括设置在基底表面上方的第一沉积单元。第一沉积单元被配置成将粉末涂层的第一层沉积到基底上。该系统包括均匀性校正单元，该均匀性校正单元设置在基底的表面上，并且相对于第一沉积单元设置在远端。均匀性校正单元被配置成确保基底上粉末涂层的厚度和/或面积质量载荷的均匀性。

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作者：情报员