国家知识产权局信息显示，上海车仪田科技有限公司申请一项名为“半导体刻蚀工艺的监控方法、装置、系统及电子设备”的专利，公开号CN122396252A，申请日期为2026年6月。

专利摘要显示，本发明涉及半导体制造工艺技术领域，公开了一种半导体刻蚀工艺的监控方法、装置、系统及电子设备，方法包括：获取当前时间窗口下刻蚀区域的当前特征谱线强度序列；根据当前特征谱线强度序列的自相关系数和方差，确定临界慢化预警等级；对目标区域的等离子体施加调制光信号，以确定等离子体的健康度；根据当前工艺参数和从当前特征谱线强度序列得到的当前工艺状态特征，更新刻蚀机理模型中的特征参数，并确定更新后的特征参数与目标特征参数的偏离程度；根据临界慢化预警等级、健康度和偏离程度，确定刻蚀工艺的健康指数；根据健康指数，控制刻蚀设备的运行状态。本发明可以实现刻蚀工艺刻蚀终点和异常的早期预警，提前调控运行状态。

天眼查资料显示，上海车仪田科技有限公司，成立于2022年，位于上海市，是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本319.4745万人民币。通过天眼查大数据分析，上海车仪田科技有限公司共对外投资了3家企业，财产线索方面有商标信息2条，专利信息121条，此外企业还拥有行政许可3个。

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作者：情报员