国家知识产权局信息显示，西默有限公司申请一项名为“一种用于光源中的声学抑制的预电离管”的专利，公开号CN122439129A，申请日期为2024年11月。

专利摘要显示，光刻系统包括光源。光源在室中生成辐射，室包括第一电极、第二电极和预电离管。第一电极的第一表面和第二电极的第一表面向内面向放电区域。预电离管可与第一电极的第二表面或第二电极的第二表面邻近。改变预电离管的位置可减少光源放电期间室内的声学影响。通过朝向放电区域移动预电离管的一端，可使得预电离管倾斜。

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作者：情报员