国家知识产权局信息显示,安徽聚合微电子有限公司申请一项名为“一种物理气相沉积腔室和物理气相沉积设备”的专利,公开号CN122428236A,申请日期为2026年6月。
专利摘要显示,本申请涉及半导体技术领域,提供一种物理气相沉积腔室和物理气相沉积设备,物理气相沉积腔室包括腔体、基座、沉积环、遮挡环和覆盖环,基座可伸缩设置在腔体内,基座形成承载面和安装面,承载面用于承载晶圆;沉积环设置在安装面,且外周壁形成第一连接部;遮挡环环绕设置在沉积环的外周,且外壁连接腔室的内壁,内壁形成台阶;覆盖环活动搭接台阶,且内周壁形成第二连接部;其中,在基座带动沉积环上升,第一连接部能够与第二连接部连接,沉积环顶起覆盖环与遮挡环分离;在基座带动沉积环下降,第一连接部能够与第二连接部分离。本申请提供的物理气相沉积腔室和物理气相沉积设备,能够在沉积环顶起覆盖环时,降低覆盖环与遮挡环的接触几率。
天眼查资料显示,安徽聚合微电子有限公司,成立于2024年,位于合肥市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本500000万人民币。通过天眼查大数据分析,安徽聚合微电子有限公司参与招投标项目10次,财产线索方面有商标信息10条,专利信息8条,此外企业还拥有行政许可5个。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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