来源：问董秘

投资者提问：

韬定律工艺下通过多重曝光和封测技术来实现先进工艺的突破，光刻胶等相关半导体材料会呈现翻倍的需求，目前公司在14纳米和7纳米光刻胶先进工艺大厂认证和量产的进展如何？

董秘回答(南大光电SZ300346)：

感谢您的关注！ArF光刻胶项目的具体进展情况请关注相关信息披露。

查看更多董秘问答>>

免责声明：本信息由新浪财经从公开信息中摘录，不构成任何投资建议；新浪财经不保证数据的准确性，内容仅供参考。