来源：新浪证券-红岸工作室

7月22日消息，国家知识产权局信息显示，深圳市龙图光罩股份有限公司申请一项名为“掩模版夹持装置以及掩模版测量设备”的专利，授权公告号CN224526965U，授权公告日为2026年7月21日。申请号为CN202521538824.4，申请公布日期为2026年7月21日，申请日期为2025年7月22日，发明人金团、吴晓薇，专利代理机构广东普润知识产权代理有限公司，专利代理师寇闯，分类号B25B11/00、G01B11/26。

专利摘要显示，本实用新型主要涉及掩模版技术领域，尤其涉及掩模版夹持装置以及掩模版测量设备，其中，掩模版夹持装置包括安装基座；夹持组件，包括四个夹持组件，四所述夹持组件共同围合形成安置空间，所述夹持组件能够相对所述安装基座上下移动，所述夹持组件包括可伸缩结构件、夹持结构件以及弹性缓冲件，所述夹持结构件还包括用于抵接掩模版周侧的夹抵部以及水平设置且用于承托掩模版的承托板，所述弹性缓冲件设于所述活动端和所述夹持结构件之间；检测组件，用于检测掩模版是否处于水平状态。基于本实用新型的结构设计，该掩模版夹持装置能够夹持非标尺寸的掩模版，且让掩模版测量设备也能对非标尺寸的掩模版进行测量。

龙图光罩是国内领先的半导体掩模版供应商，具备自主研发生产的技术壁垒优势。公司成立于2010年4月19日，于2024年8月6日在上海证券交易所上市，注册及办公地址均位于广东省深圳市。

龙图光罩主营业务为半导体掩模版的研发、生产和销售，所属申万行业为电子-半导体-半导体材料，相关概念板块涵盖半导体产业、昨日高振幅、半导体。

2025年，龙图光罩实现营业收入2.47亿元，在29家同行业可比公司中排名第29位，当期行业营收第一名有研新材达95.42亿元，第二名雅克科技为86.11亿元，行业平均营收18.93亿元，行业中位数为10.73亿元；营收构成中石英掩模版贡献2.05亿元，占比83.19%，苏打掩模版贡献4100.79万元，占比16.63%，其他补充业务收入44.58万元，占比0.18%。同期公司实现净利润5608.85万元，行业排名17/29，行业净利润榜首雅克科技达10.3亿元，第二名江丰电子为4.14亿元，行业平均净利润3198.31万元，行业中位数为8532.72万元。

指标类别 具体指标 数值情况 行业对比维度 营收表现 2025年营业收入 2.47亿元 行业排名29/29，低于行业均值18.93亿元、中位数10.73亿元 营收构成 石英掩模版收入及占比 2.05亿元，83.19% 核心营收来源 营收构成 苏打掩模版收入及占比 4100.79万元，16.63% 第二大收入来源 营收构成 其他补充业务收入及占比 44.58万元，0.18% 占比极低 净利润表现 2025年净利润 5608.85万元 行业排名17/29，高于行业均值3198.31万元，低于行业中位数8532.72万元

深圳市龙图光罩股份有限公司近期专利情况如下：

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人1掩模版夹持装置以及掩模版测量设备实用新型授权CN202521538824.42025-07-22CN224526965U2026-07-21金团、吴晓薇2掩模版光学膜的撬膜装置实用新型授权CN202521547252.62025-07-22CN224536340U2026-07-21陈健、吴晓薇3一种掩膜版修补装置实用新型授权CN202521004558.72025-05-21CN224190388U2026-05-01武志伦、郭成恩4能够防溅射的掩模版清洗设备实用新型授权CN202520807558.42025-04-25CN223986276U2026-03-10邵康节、白永智5掩模版侧壁检测装置以及刻蚀设备实用新型授权CN202520809184.X2025-04-25CN223985698U2026-03-10吴晓薇、郭成恩6掩模版位置精度测量方法、装置、设备、介质以及产品发明专利授权、公布CN202410841312.92024-06-27CN118392091B2024-09-03黄执祥、白永智、雷健、何祥、王栋7掩模版刻蚀方法、装置、设备以及存储介质发明专利授权、公布CN202410797921.92024-06-20CN118363258B2024-09-20雷健、黄执祥、王栋、白永智、柯汉奇8掩膜版修补机及其校正掩膜版位置的夹具实用新型授权、公布CN202421124141.X2024-05-21CN222259836U2024-12-27孟山、郑祺弘9一种废蚀刻液的排放装置实用新型授权、公布CN202421112368.22024-05-21CN222250985U2024-12-27牛志刚、白永智10贴膜方法、装置、终端设备以及存储介质发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202410147739.92024-02-02CN117682161B2024-04-19雷健、王栋、何俊龙、柯汉奇、何祥11掩膜版与薄膜贴合度检测方法、装置、设备以及存储介质发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202410139101.02024-02-01CN117663990B2024-04-19郭成恩、廖文超、郑祺弘、崔嘉豪、白永智12掩模版清洗方法、装置、终端设备以及存储介质发明专利发明专利申请公布后的驳回、实质审查的生效、公布CN202410123621.22024-01-30CN117644074A2024-03-05王栋、黄执祥、白永智、何俊龙、郑祺弘13曝光范围扩展方法、装置、终端设备以及存储介质发明专利授权、公布CN202410130232.22024-01-30CN117850172B2025-01-07黄执祥、雷健、何祥、孙世强、廖文超14刷洗装置实用新型授权CN202323427898.42023-12-14CN221847970U2024-10-18郑祺弘、张锋、韦文辉15净化盒自动封装装置实用新型授权CN202323398906.72023-12-13CN221341375U2024-07-16徐智、何祥、柯汉奇16掩膜版抓持装置实用新型授权CN202323412166.82023-12-13CN221478764U2024-08-06张锋、白永智、王栋17载具和清洁装置实用新型授权CN202323326704.12023-12-07CN221269152U2024-07-05周峰、孙世强、黄执祥18夹持机构和清洗装置实用新型授权CN202323326707.52023-12-07CN221288979U2024-07-09牛志刚、白永智、雷健19PSM掩模版白缺陷修补方法、设备及存储介质发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202311551979.72023-11-21CN117289544B2024-02-20何祥、雷健、黄执祥、崔嘉豪、郑祺弘20图形辅助的干法刻蚀装置及方法发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202311542929.22023-11-20CN117270317B2024-02-09王栋、白永智、何俊龙、柯汉奇、杨勤丰21掩模版贴膜方法、装置及存储介质发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202311542933.92023-11-20CN117261271B2024-02-20雷健、黄执祥、王栋、何祥、郭成恩22显影方法及显影装置发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202311534950.82023-11-17CN117311106B2024-02-09白永智、何俊龙、廖文超、孙世强、柯汉奇23掩模版贴膜设备实用新型授权CN202323006794.62023-11-07CN221049030U2024-05-31郭成恩、黄崇昌、毛翔24EAPSM掩模版及其制造方法发明专利发明专利申请公布后的驳回、实质审查的生效、公布CN202311398106.72023-10-26CN117311079A2023-12-29黄执祥、王栋、雷健、白永智、何祥25夹具实用新型授权CN202322782965.82023-10-16CN221436231U2024-07-30雷健、郑巍峰、李伟艺26掩模版缺陷处理装置、方法以及终端设备发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202310387421.32023-04-12CN116088265B2023-06-09何祥、雷健、崔嘉豪、柯汉奇、张成忠27掩模版预校准方法、系统、电子设备以及可读存储介质发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202310387417.72023-04-12CN116088283B2023-06-30白永智、雷健、谢超、何祥、何俊龙28掩模版的对位校准方法、装置、设备及存储介质发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202310379785.72023-04-11CN116107179B2023-06-13黄执祥、谢超、孙世强、雷健、崔嘉豪29掩模版刻蚀设备、方法、系统及计算机可读存储介质发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202310379779.12023-04-11CN116107156B2023-06-23王栋、黄执祥、白永智、孙世强、周峰30一种掩模版上金属引导器的去除装置实用新型授权CN202223403563.42022-12-19CN219202124U2023-06-16郭成恩、谢超31一种掩模版后处理设备的离子残留控制装置实用新型授权CN202223486175.72022-12-19CN219285588U2023-06-30雷健、白永智32一种功率半导体掩模版清洗的批量传输装置实用新型授权CN202223403501.32022-12-19CN219273826U2023-06-30黄执祥、王栋33一种DUV用掩模版无接触卸载保护膜的装置实用新型授权CN202223403545.62022-12-19CN219609435U2023-08-29郑祺弘、孙世强34掩模版清洗用超纯水系统及检测方法发明专利发明专利申请公布后的驳回、著录事项变更、实质审查的生效、公布CN202210922128.82022-08-02CN115286154A2022-11-04黄执祥、侯广杰、郑巍峰35超结MOS器件OPC掩模版制作方法及装置发明专利发明专利申请公布后的驳回、著录事项变更、实质审查的生效、公布CN202210453660.X2022-04-27CN114690542A2022-07-01黄执祥、王栋、侯广杰36IGBT沟槽工艺掩模版专用装置及使用方法发明专利发明专利申请公布后的驳回、著录事项变更、实质审查的生效、公布CN202210445298.12022-04-26CN114815518A2022-07-29王栋、谢超、侯广杰37掩模护膜、掩模护膜移除方法以及掩模护膜移除装置发明专利授权、著录事项变更、实质审查的生效、公布CN202210446397.12022-04-26CN114815519B2023-07-21侯广杰、黄执祥、谢超38半导体芯片用掩模版膜下异物清理方法及设备发明专利专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权、实质审查的生效、公布CN202210353462.62022-04-06CN114433570B2022-06-21王栋、柯汉奇、谢超、白永智39半导体芯片用掩模版贴膜精度检测方法及检测装置发明专利专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权、实质审查的生效、公布CN202210340199.72022-04-02CN114445402B2022-06-24黄执祥、柯汉奇、王栋、孙世强40半导体芯片用相移掩模版光刻胶烘烤方法及存储介质发明专利专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权、实质审查的生效、公布CN202210340217.12022-04-02CN114488723B2022-07-01侯广杰、柯汉奇、叶小龙、王栋41半导体芯片用掩模版传送装置及其传送方法发明专利专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权、实质审查的生效、公布CN202210336511.52022-04-01CN114408518B2022-08-19谢超、柯汉奇、黄执祥、张道谷42掩模版制造装置发明专利发明专利申请公布后的驳回、实质审查的生效、公布CN202111052413.02021-09-08CN113655688A2021-11-16叶小龙、侯广杰、黄执祥、谢超43曝光方法以及曝光装置发明专利发明专利申请公布后的驳回、实质审查的生效、公布CN202111052400.32021-09-08CN113703280A2021-11-26侯广杰、叶小龙、王栋、谢超44掩模版辅助静态图像测量装置及掩模版静态图像测量系统发明专利专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权、实质审查的生效、公布CN202111052415.X2021-09-08CN113758420B2022-06-14侯广杰、叶小龙、黄执祥、谢超45UT曝光机用掩模版的制作装置及方法发明专利发明专利申请公布后的驳回、实质审查的生效、公布CN202111046069.42021-09-07CN113703279A2021-11-26叶小龙、侯广杰、王栋、黄执祥46光刻机参数状态检测方法、装置、设备及其存储介质发明专利专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权、实质审查的生效、公布CN202111046088.72021-09-07CN113703289B2022-06-03叶小龙、侯广杰、谢超、王栋47曝光设备正交性检测方法发明专利专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权、实质审查的生效、公布CN202111044702.62021-09-07CN113703283B2022-11-15侯广杰、叶小龙、黄执祥、王栋48掩膜版上版装置及光刻机实用新型专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权CN202121922406.72021-08-16CN215376087U2021-12-31叶小龙、刘宇琪49自动后处理机的恒温净化供水装置实用新型专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权CN202121935646.02021-08-16CN215365285U2021-12-31叶小龙、孟山50掩模版原材料恒温装置实用新型专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权CN202121906718.92021-08-13CN215708233U2022-02-01黄执祥、孙世强